[实用新型]一种红外窄带带通滤光片有效
| 申请号: | 201320076002.X | 申请日: | 2013-02-19 |
| 公开(公告)号: | CN203164461U | 公开(公告)日: | 2013-08-28 |
| 发明(设计)人: | 奂微微;黄兴桥 | 申请(专利权)人: | 东莞五方光电科技有限公司 |
| 主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20;B32B9/04;B32B17/06 |
| 代理公司: | 东莞市冠诚知识产权代理有限公司 44272 | 代理人: | 何恒韬 |
| 地址: | 523000 广东省东莞*** | 国省代码: | 广东;44 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 红外 窄带 滤光 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种滤光片,特别涉及一种红外窄带带通滤光片。
背景技术
目前,生物医药、红外成像,红外探测,红外传感,红外测温等领域需要使用到800-900nm红外光导通的红外窄带带通滤光片。在现有技术中,此种红外窄带带通滤光片主要存在两个缺陷,其一、在400-760nm的可见光波段以及950-1100nm的红外光波段容易出现次峰通带,从而产生光干扰问题;其二、现有红外窄带带通滤光片经常使用有色玻璃材料制成,在其显色过程中,须用到镉、铅等物质,而这些物质在ROHS标准中是明确限制用量的物质,因而不符合环保的要求。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是针对上述现有技术的不足,提供一种环保,能有效截除次峰,且在800-900nm具有较高红外光透过率的红外窄带带通滤光片。
为解决上述技术问题,本实用新型的技术方案是:一种红外窄带带通滤光片,包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的53层膜,该53层膜由高折射率的二氧化钛TiO2膜层和低折射率的二氧化硅SiO2膜层多次交替堆叠组成,该53层膜从内至外依次为:第1层,TiO2膜层,厚度为100.5-101nm;第2层,SiO2膜层,厚度为264.5-265nm;第3层,TiO2膜层,厚度为91-91.4nm;第4层,SiO2膜层,厚度为218-218.4nm;第5层,TiO2膜层,厚度为107-107.4nm;第6层,SiO2膜层,厚度为168.5-169nm;第7层,TiO2膜层,厚度为109-109.4nm;第8层,SiO2膜层,厚度为252-252.4nm;第9层,TiO2膜层,厚度为99-99.49nm;第10层,SiO2膜层,厚度为174-174.45nm;第11层,TiO2膜层,厚度为89.6-90nm;第12层,SiO2膜层,厚度为134-134.4nm;第13层,TiO2膜层,厚度为163.5-163.8nm;第14层,SiO2膜层,厚度为183.5-184nm;第15层,TiO2膜层,厚度为134-134.3nm;第16层,SiO2膜层,厚度为165-165.49nm;第17层,TiO2膜层,厚度为97.5-98nm;第18层,SiO2膜层,厚度为116-116.49nm;第19层,TiO2膜层,厚度为72-72.3nm;第20层,SiO2膜层,厚度为92-92.4nm;第21层,TiO2膜层,厚度为69.5-70nm;第22层,SiO2膜层,厚度为118-118.49nm;第23层,TiO2膜层,厚度为82-82.49nm;第24层,SiO2膜层,厚度为132-132.49nm;第25层,TiO2膜层,厚度为79.5-80nm;第26层,SiO2膜层,厚度为115.5-116nm;第27层,TiO2膜层,厚度为78-78.3nm;第28层,SiO2膜层,厚度为104.5-105nm;第29层,TiO2膜层,厚度为63.5-64nm;第30层,SiO2膜层,厚度为107.5-108nm;第31层,TiO2膜层,厚度为68-68.4nm;第32层,SiO2膜层,厚度为95.6-96nm;第33层,TiO2膜层,厚度为44.6-45nm;第34层,SiO2膜层,厚度为74.5-75nm;第35层,TiO2膜层,厚度为64-64.4nm;第36层,SiO2膜层,厚度为106-106.3nm;第37层,TiO2膜层,厚度为56.6-57nm;第38层,SiO2膜层,厚度为82.5-83nm;第39层,TiO2膜层,厚度为53-53.5nm;第40层,SiO2膜层,厚度为89-89.4nm;第41层,TiO2膜层,厚度为40-40.4nm;第42层,SiO2膜层,厚度为52.6-53nm;第43层,TiO2膜层,厚度为52-52.49nm;第44层,SiO2膜层,厚度为83.5-84nm;第45层,TiO2膜层,厚度为43-43.4nm;第46层,SiO2膜层,厚度为74.5-75nm;第47层,TiO2膜层,厚度为50-50.3nm;第48层,SiO2膜层,厚度为80-80.49nm;第49层,TiO2膜层,厚度为49.5-50nm;第50层,SiO2膜层,厚度为92-92.4nm;第51层,TiO2膜层,厚度为109-109.4nm;第52层,SiO2膜层,厚度为90.6-91nm;第53层,TiO2膜层,厚度为29.6-30nm。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东莞五方光电科技有限公司,未经东莞五方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201320076002.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:激光系统及整合式激光光学元件
- 下一篇:一种增透滤光片





