[实用新型]单片式无金属痕电容式触控玻璃有效
| 申请号: | 201320064238.1 | 申请日: | 2013-02-04 |
| 公开(公告)号: | CN203102236U | 公开(公告)日: | 2013-07-31 |
| 发明(设计)人: | 陈奇;沈励;许沭华;迟晓辉 | 申请(专利权)人: | 芜湖长信科技股份有限公司 |
| 主分类号: | G06F3/044 | 分类号: | G06F3/044 |
| 代理公司: | 芜湖安汇知识产权代理有限公司 34107 | 代理人: | 张小虹 |
| 地址: | 241009 安徽省*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 单片 金属 电容 式触控 玻璃 | ||
本实用新型涉及无金属痕带电容式触摸功能的盖板玻璃(Non‑Metal reflective Patterned Touch Glass)。
目前市场上主流的以玻璃基材为主的投射式电容触摸屏面板的构成多采用将触控玻璃(Touch Sensor)与盖板玻璃(Cover Glass)贴合在一起的产品。这种设计的主要问题是工艺复杂,成本高,组件厚度太厚,重量太重,贴合良率低。已经越来越不适应电子数码产品更轻更薄更廉的发展方向。另外由于采用的是两片玻璃的贴合,整个电容式触摸屏组件的透光性较差,无法满足高清液晶显示屏的要求,在户外使用效果更差。
就此,各个触控玻璃(Touch sensor)的制造商纷纷推出一片触控盖板玻璃的方案,将传统的触控玻璃和盖板玻璃贴合在一起的触摸屏变成一片触控盖板玻璃触摸屏。而由于是一片玻璃的触控方案,其触控的表面是在触控盖板玻璃的内表面,按照单面触控玻璃的方案,中间会有规则的金属线(宽度5‑20微米,长度50‑300微米不等),虽然不影响外观,但是大多数消费者都很难接受极易看到这些可视区的金属线。
本实用新型所要解决的技术问题是实现一种单片式无金属痕电容式触控玻璃。
为了实现上述目的,本实用新型采用的技术方案为:单片式无金属痕电容式触控玻璃,由保护玻璃和树脂保护层夹持导电层构成,所述的保护玻璃与导电层之间设有二氧化硅保护层。
所述的导电层由保护玻璃向树脂保护层方向依次设有ITO图层、绝缘架桥层和金属跨桥导体层,所述的导电层边缘依次设有边框和金属引线。
所述的导电层边缘边框和金属引线之间设有一层二氧化硅保护层绝缘。防止边框具有导电性,导致金属线短路。
所述的二氧化硅保护层厚度为。
所述的保护玻璃厚度为0.9‑1.3mm,所述的绝缘架桥层厚度为1.2‑1.8μm。
所述的保护玻璃厚度为0.9‑1.3mm,所述的绝缘架桥层厚度为1.2‑1.8μm。
本实用新型的优点在于不仅解决两片玻璃造成的工艺复杂,结构复杂的问题,也可以降低投射光的反射率从而使显示更清晰,尤其是显示器可视区没有金属线反射,提高的产品的整体外观品质。
下面对本实用新型说明书中每幅附图表达的内容及图中的标记作简要说明:
图1为单片式无金属痕电容式触控玻璃层结构图;
上述图中的标记均为:1、保护玻璃;2、二氧化硅保护层;3、边框;4、ITO图层;5、绝缘架桥层;6、金属跨桥导体层;7、金属引线;8、树脂保护层。
下面对照附图,通过对实施例的描述,本实用新型的具体实施方式如所涉及的各构件的形状、构造、各部分之间的相互位置及连接关系、各部分的作用及工作原理、制造工艺及操作使用方法等,作进一步详细的说明,以帮助本领域技术人员对本实用新型的实用新型构思、技术方案有更完整、准确和深入的理解。
参见图1可知,本实用新型单片式无金属痕电容式触控玻璃,由保护玻璃1和树脂保护层8夹持导电层构成,并在保护玻璃1与导电层之间设有一层二氧化硅保护层2,二氧化硅保护层2厚度为。
上述导电层由保护玻璃1向树脂保护层8方向依次设有ITO图层4、绝缘架桥层5和金属跨桥导体层6,导电层的边缘依次设有边框3和金属引线7,并在导电层边缘边框3和金属引线7之间设有一层二氧化硅保护层2(由制作工艺形成),其中边框3可以是黑、红、橙、黄、绿、青、蓝、紫各色,其主要代替贴合盖板玻璃及贴合盖板玻璃上的各颜色框油墨,用于抵挡金属引线7可视。保护玻璃厚度为0.7‑2.0mm,绝缘架桥层厚度为1.2‑1.8μm。
本实用新型单片式无金属痕电容式触控玻璃的制造工艺如下:
步骤1、保护玻璃1400X500X1.1mm(仅为一个实施例的尺寸)的浮法玻璃基板,先对浮法玻璃进行化学钢化,再在浮法玻璃一个表面(空气面或者锡面)用光刻的方法做边框3,即先涂一层有色膜,再依次进行涂布,烘烤,曝光、显影,蚀刻工艺将其制作成所需图形,制成边框3;
步骤1、保护玻璃1400X500X1.1mm(仅为一个实施例的尺寸)的浮法玻璃基板,先对浮法玻璃进行化学钢化,再在浮法玻璃一个表面(空气面或者锡面)用光刻的方法做边框3,即先涂一层有色膜,再依次进行涂布,烘烤,曝光、显影,蚀刻工艺将其制作成所需图形,制成边框3;
步骤2、在具有边框3的保护玻璃1(或还具有黑线图案)一面采用真空镀膜方式(磁控溅射或电子枪蒸发)镀一层二氧化硅保护层2,厚度为10nm‑100nm;
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