[实用新型]一种多用途同步辐射相干X射线衍射显微成像装置

权利要求书

1.一种多用途同步辐射相干X射线衍射显微成像装置，其特征在于：所述装置沿光束前进方向依次共轴排列有：同步辐射X射线光源、波荡器、设置于电控旋转平台上的单色器晶体、X射线快门、第一升降平台和设置于其上的聚焦装置腔、真空管道、第二升降平台和设置于其上的多用途样品室、真空管道、第三升降平台和设置于其上的探测器、以及收集数据和控制电控平移台移动的计算机；其中所述聚焦装置腔在侧面设有一个用于内部设备调整的封闭门，其腔内沿光路前进方向依次共轴排列有：固定于角位移台和二维方向高精度平移台上的水平聚焦KB镜、固定于角位移台和二维方向高精度平移台上的垂直聚焦KB镜，所述多用途样品室顶端面和侧面分别设有一个密封门，室中沿光路前进方向依次共轴排列有：固定于二维方向高精度电动平移台上的针孔、第一直角光阑、第二直角光阑、能三维方向移转的样品台和可移动光电二极管，样品室顶部设有一个真空阀接口，接于真空泵，样品室底部一侧和样品室顶部另一侧各设一个换气接口，分别为进气口和出气口，正对样品台位置设置一个氮气冷却喷头，喷头的另一端连接于样品室顶部的液氮进口，所述第三升降平台上沿光路前进方向依次共轴排列有：X射线衰减器，固定于二维高精度电动平移台上的光电二极管，X射线挡板和置于高精度三维方向电动平移台上的X射线CCD探测器。

2.根据权利要求1所述多用途同步辐射相干X射线衍射显微成像装置，其特征在于：所述单色器晶体为111晶面Si单晶；所述X射线快门响应时间为0.1-10ms，X射线穿透阈值不小于20KeV；所述针孔孔径范围为0.2μm-50μm，厚度不低于100μm；所述第一直角光阑和第二直角光阑均为边缘平整、洁净的硅窗，厚度不低于100μm，分别置于针孔之后10-30cm和40-60cm的位置；所述可移动光电二极管为硅X射线光电二极管，连接于信号放大器，探测X射线的通量；所述样品台由两个二维方向平移台和一个180°或360°旋转台组成，距离第二直角光阑的距离为1-20cm；所述X射线衰减器由一楔形铝片构成，楔形厚度范围为0.01mm-5mm；所述X射线挡板由边缘平整、厚度2-5mm的正方形不锈钢片组成，置于X射线CCD探测器前1-10cm；所述X射线CCD探测器为单光子响应液氮制冷CCD，距离样品台为10-500cm。

3.根据权利要求1所述多用途同步辐射相干X射线衍射显微成像装置，其特征在于：所述聚焦装置腔和多用途样品室为透明设计，腔体由厚度为1.5-3cm的透明PVC板制得。