[实用新型]测量装置

说明书

本实用新型涉及光刻掩模版制作领域，尤其涉及一种测量装置。

在半导体的光刻领域中，需要使用一种专用掩模板。请参阅图1，该专用掩模板包括掩模板本体11和两块导向块12，所述两块导向块12分别设置于所述掩模板的同侧的两端，每个所述导向块12块分别沿所述掩模板本体11的纵向和横向凸出，所述两块导向块12起到导向作用，使得该特制研磨板与其光刻机相匹配安装，所述掩模板本体11的表面上设有两个掩模板测量部13，两个掩模板测量部13与所述两块导向块12一一对应。

两块导向块12的设置位置对于该专用研磨板来说是非常关键的。如果两块导向块12的位置设置不合理，该专用掩模板将无法安装至光刻机中。因此，制造该专用掩模板时，需要测量导向块12上沿掩模板本体11的横向凸出的侧面至对应的掩模板测量部13的距离y1、y2,然后通过公式1000*(y1‑y2)/100计算出该专用掩模板上导向块12的倾斜度。如果测量出来的倾斜度超出允许范围，就意味着该专用掩模板不能在该光刻机中安装并运行。

现有的测量方法是：直接通过显微镜测量导向块12上沿掩模板本体11的横向凸出的侧面至对应的掩模板测量部13的距离y1、y2。但是，由于导向块12上沿掩模板本体11的横向凸出的侧面是外凸的曲面，使得这种测量方法所测得结果的精确度低且不稳定，故，经常出现由于测量失误使得应该修整的专用掩模板流通出去导致客户抱怨和退货的情况。

因此，如何提供一种测量精度更高、更方便的测量装置是本领域技术人员亟待解决的一个技术问题。

本实用新型的目的在于提供一种测量装置，可以精确获知导向块上沿掩模板本体的横向凸出的侧面至对应的掩模板测量部的距离y1、y2，提高专用掩模板的测量精度和测量效率。

为了达到上述的目的，本实用新型采用如下技术方案：

一种测量装置，包括底座、测量辅助板、两块间隔设置的第一限位块和一块第二限位块，所述测量辅助板铺设于所述底座上，所述测量辅助板的一个表面上设间隔设有两个辅助测量部，所述辅助测量部与所述第一限位块一一对应，所述第二限位块的工作面与其中一块第一限位块的工作面垂直相交。

一种测量装置，包括底座、测量辅助板、两块间隔设置的第一限位块和一块第二限位块，所述测量辅助板铺设于所述底座上，所述测量辅助板的一个表面上设间隔设有两个辅助测量部，所述辅助测量部与所述第一限位块一一对应，所述第二限位块的工作面与其中一块第一限位块的工作面垂直相交。

优选的，在上述的测量装置中，所述测量辅助板和底座之间设有第一垫块。

优选的，在上述的测量装置中，所述底座上还设有用于支撑被测掩模板的第二垫块。

优选的，在上述的测量装置中，所述辅助测量部呈“丰”字型。

本实用新型提供的测量装置，包括底座、测量辅助板、两块间隔设置的第一限位块和一块第二限位块，所述测量辅助板铺设于所述底座上，所述测量辅助板的一个表面上间隔设有两个辅助测量部，所述辅助测量部与所述第一限位块一一对应，所述第二限位块的工作面与其中一块第一限位块的工作面垂直相交。在测量的时候，将专用掩模板平放在底座上，使得，两块导向块上沿掩模板本体横向凸出的侧面抵在所述第一限位块的工作面上，一块导向块上沿掩模板本体纵向凸出的侧面抵在所述第二限位块的工作面上，测量辅助测量部与对应的掩模板测量部之间的距离Y1、Y2，然后将该距离Y1、Y2减去对应的测量辅助测量部与对应的第一限位块的工作面之间的距离A1、A2（此为测量装置的固定参数，从厂家那里可以直接获得），即可以精确获知导向块上沿掩模板本体的横向凸出的侧面至对应的掩模板测量部的距离y1、y2，最后，根据通过公式1000*(y1‑y2)/100计算出该专用掩模板上导向块的倾斜度，由此，实现了专用掩模板的精确测量。

本实用新型的测量装置由以下的实施例及附图给出。

图1是专用掩模板的结构示意图（俯视图）；

图2是本实用新型一实施例的测量装置的结构示意图（俯视图）；

图3是本实用新型一实施例的测量装置测量专用掩模板的使用状态示意图（俯视图）。

图3是本实用新型一实施例的测量装置测量专用掩模板的使用状态示意图（俯视图）。

图中，11‑掩模板本体、12‑导向块、13‑掩模板测量部、21‑底座、22‑测量辅助板、23‑第一限位块、24‑第二限位块、25‑辅助测量部、26‑第一垫块、27‑第二垫块。