[实用新型]研磨清洗槽

说明书

技术领域

本实用新型涉及化学机械研磨技术领域，特别涉及一种研磨清洗槽。

背景技术

化学机械研磨(chemical mechanical polishing)技术兼有机械式研磨和化学式研磨的两种作用，普遍应用于半导体晶圆的制造中。在化学机械研磨(chemical mechanical polishing)工艺中，晶圆研磨后一般需要置于如下所述的研磨清洗槽内进行清洗，研磨清洗槽的结构请参考图1，如图1所示，研磨清洗槽100包括槽壁101、滑轮102和滚轮103，滑轮102设置于槽壁101的外部，滚轮103设置于槽壁101的内部。为固定滚轮103的位置，滚轮103的外部设置有滚轮外套111。同时，滚轮外套111和槽壁主体110组合形成槽壁101。为使槽壁101密封，槽壁主体110和滚轮外套111通过密封圈112连接。其中，滚轮103包括依次连接的晶圆支架104、连杆105和滚轮本体106，滚轮本体106由磁铁制成，其形状为圆柱体。滑轮102包括齿轮107、磁铁块108和金属体109，齿轮107和金属体109的底面连接，齿轮107的中心设置有一磁铁块108，磁铁块108的磁性与滚轮滚轮本体106的磁性相反。

进行清洗时，研磨清洗槽100内装满研磨清洗液，晶圆固定在滚轮103上，电机驱动滑轮102转动，同时滑轮102通过磁耦合驱动滚轮103转动，从而带动晶圆在研磨清洗槽100中进行清洗。然而，研磨清洗槽100内的研磨清洗液是由氨水和双氧水两种液体按一定比例混合而成，具有很强的腐蚀性，槽壁102中的密封圈112长期与研磨清洗液接触，会被研磨清洗液腐蚀，腐蚀后的密封圈112会污染研磨清洗液。将晶圆置于受污染的研磨清洗液中清洗时，晶圆会被污染，严重时甚至导致产品报废。

基此，如何防止研磨清洗槽中的密封圈被腐蚀污染研磨清洗液，甚至污染晶圆导致产品报废成为本领域技术人员亟待解决的一个技术问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种研磨清洗槽以解决现有技术中清洗槽中的密封圈腐蚀后污染研磨清洗液，进而污染晶圆造成产品报废的问题。

为解决上述问题，本实用新型提供一种研磨清洗槽，包括槽壁、滑轮和滚轮；

其中，所述槽壁的一侧面上设置有第一圆柱体和第二圆柱体，所述第一圆柱体设置于槽壁的内侧，所述第二圆柱体设置于槽壁的外侧；

所述滚轮套在第一圆柱体上；

所述滑轮设置于第二圆柱体的外部；

所述滑轮通过磁耦合驱动所述滚轮转动。

优选的，在所述的研磨清洗槽中，所述滚轮包括晶圆支架、连杆和滚轮本体；

所述晶圆支架和滚轮本体通过连杆连接。

优选的，在所述的研磨清洗槽中，所述滚轮本体的形状为圆桶形，滚轮本体的底面与连杆连接；

所述滚轮本体套在所述第一圆柱体上。

优选的，在所述的研磨清洗槽中，所述滚轮本体由磁铁制成。

优选的，在所述的研磨清洗槽中，所述滑轮包括齿轮组、磁铁块和金属套；

所述金属套的形状是圆桶形，金属套的底面与所述齿轮组连接；

所述磁铁块设置于金属套的内部。

优选的，在所述的研磨清洗槽中，所述磁铁块的磁性与所述滚轮本体的磁性相反。

优选的，在所述的研磨清洗槽中，所述金属套由导磁体制成。

优选的，在所述的研磨清洗槽中，所述滑轮和滚轮均为对称性结构，中心轴在同一条直线上。

优选的，在所述的研磨清洗槽中，还包括一金属块；

所述金属块设置在所述滑轮和槽壁之间，套在所述第二圆柱体上；

所述金属块由导磁体制成。

优选的，在所述的研磨清洗槽中，还包括研磨清洗液出口和入口；

所述研磨清洗液出口和入口设置于所述槽壁上，研磨清洗液的入口比研磨清洗液的出口要高。

综上所述，本实用新型提供的研磨清洗槽通过磁耦合驱动研磨清洗槽内的滚轮转动清洗晶圆，槽壁无需密封圈连接，研磨清洗槽的结构能够保证不污染清洗液，更不会污染晶圆造成产品报废。

附图说明

图1是现有技术中研磨清洗槽的结构示意图；

图2是本实用新型实施例的一种研磨清洗槽的结构示意图。

具体实施方式

以下结合附图和具体实施例对本实用新型提出一种研磨清洗槽作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书，本实用新型的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。