[实用新型]一种光刻机投影物镜波像差在线测量装置

权利要求书

1.一种光刻机投影物镜波像差在线测量装置，包括光源(LA)、投影物镜(PO)、探测器(DE)和工件台(ST)，所述光源(LA)用于出射激光，其特征在于：

所述装置还包括掩模板(MA)，其上具有测试标记(7)，所述激光将该测试标记(7)经由所述投影物镜(PO)成像；

所述探测器(DE)具有一个表面和在该表面以下的光电传感器，所述表面上设置有参考标记；

所述对测试标记(7)进行成像的激光经过该参考标记后照射在所述光电传感器上；

所述工作台(ST)用于承载所述探测器(DE)，该工作台可以在水平、垂直方向上移动。

2.如权利要求1所述的光刻机投影物镜波像差在线测量装置，其特征在于，所述掩模板(MA)还包括多照明模式模板(5)和会聚透镜(6)，入射到所掩模板(MA)的激光通过所述多照明模式模板(5)后由所述会聚透镜(6)整形，然后照射在所述测试标记(7)上，所述多照明模式模板(5)是具有特定特征图案的掩模板，所述特征图案是能够产生多种照明模式的特征图案；所述参考标记和测试标记的图案位置分布与所述多模式模板上的特征图案的位置分布相同。

3.如权利要求2所述的光刻机投影物镜波像差在线测量装置，其特征在于，所述多照明模式模板的特征图案呈三行三列分布。

4.如权利要求2所述的光刻机投影物镜波像差在线测量装置，其特征在于，所述掩模板(MA)还包括扩散片(4)，其用于对激光光束在空间上进行均匀化。

5.如权利要求1-4中任一项所述的光刻机投影物镜波像差在线测量装置，其特征在于，所述参考标记和测试标记具有相同的图案和图案分布，且其尺寸之比为所述投影物镜(PO)的放大倍数。

6.如权利要求5所述的光刻机投影物镜波像差在线测量装置，其特征在于，所述光电传感器是多元传感器，其包括多个传感器元(81、82、83)，所述各传感器元的位置分布和所述测试标记(7)中的图案分布一致，并且分别设置在在所述参考标记的正下方，接收从对应参考标记照射下来的激光。

7.如权利要求5所述的光刻机投影物镜波像差在线测量装置，其特征在于，所述多照明模式模板(5)的特征图案包括能够产生环形照明模式、二极照明模式和四极照明模式的特征图案。

8.如权利要求5所述的光刻机投影物镜波像差在线测量装置，其特征在于，所述测试标记或参考标记包括用于实时测量光源的强度变化的图案(101)。