[实用新型]一种低弹跳真空灭弧室结构有效
| 申请号： | 201320030603.7 | 申请日： | 2013-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN203192686U | 公开（公告）日： | 2013-09-11 |
| 发明（设计）人： | 张毅;陈志会;周吉冰 | 申请（专利权）人： | 中国振华电子集团宇光电工有限公司（国营第七七一厂） |
| 主分类号： | H01H33/664 | 分类号： | H01H33/664 |
| 代理公司： | 北京联创佳为专利事务所(普通合伙) 11362 | 代理人： | 王娟;郭防 |
| 地址： | 550018 贵州省*** | 国省代码： | 贵州;52 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 弹跳 真空 灭弧室 结构 | ||
【权利要求书】：
1.一种低弹跳真空灭弧室结构，其特征在于：包括有杯托（5），杯托（5）内侧面分别与静触头（2）、动触头（4）连接，杯托（5）连接的内侧面上设有环形槽（7），环形槽（7）环绕的内圈为中间受力部分（9），加强筋（3）一端连接杯托（5）上的中间受力部分（9）。
2.根据权利要求1所述的低弹跳真空灭弧室结构，其特征在于：所述环形槽（7）环绕的中间受力部分（9）上设有定位槽（8）。
3.根据权利要求1所述的低弹跳真空灭弧室结构，其特征在于：所述环形槽（7）的深度为2～20mm。
4.根据权利要求1所述的低弹跳真空灭弧室结构，其特征在于：所述中间受力部分（9）的直径d为15～60mm。
5.根据权利要求1所述的低弹跳真空灭弧室结构，其特征在于：杯托（5）分别与静导电杆（1）和动导电杆（6）连接，静导电杆（1）、动导电杆（6）上设有凹槽（10）。
6.根据权利要求5所述的低弹跳真空灭弧室结构，其特征在于：静导电杆（1）上的凹槽（10）的宽度为L1、深度为H1，动导电杆（6）上的凹槽的宽度为L2、深度为H2，L1、L2大小为2～50mm，H1大小为对应开槽处动导电杆（6）直径d1的1/2～1/4倍，H2大小为对应开槽处静导电杆（1）直径d2的1/2～1/4倍。
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