[实用新型]一种表面具有凸起的二氧化钛薄膜的沉积装置有效
申请号: | 201320014623.5 | 申请日: | 2013-01-11 |
公开(公告)号: | CN203007390U | 公开(公告)日: | 2013-06-19 |
发明(设计)人: | 尤玉飞;徐春花;王俊鹏;王镜喆;李晶晶;刘玉亮;曹津;李登辉;陈月 | 申请(专利权)人: | 河南科技大学 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/08 |
代理公司: | 洛阳公信知识产权事务所(普通合伙) 41120 | 代理人: | 罗民健 |
地址: | 471000 河*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 表面 具有 凸起 氧化 薄膜 沉积 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种薄膜沉积装置,具体的说是一种表面具有凸起的二氧化钛薄膜的沉积装置。
背景技术
二氧化钛由于其具有优越的白度、着色力、遮盖力、耐候性、耐热性、化学稳定性以及安全性,被广泛用于涂料、塑料、橡胶、油墨、纸张、化纤、陶瓷、日化、医药和食品等行业,随着纳米材料的表面效应、量子效应和宏观体积效应等特殊性能的发现和阐明,二氧化钛纳米材料的应用领域不断扩大,作为功能材料具有广阔的应用前景,如应用于太阳能电池、水处理、空气净化器、防雾和防污自清洁涂层、抗菌材料和降温材料等多个领域,引起了人们的广泛关注。
目前,制备致密的二氧化钛薄膜技术较为成熟,近年来人们致力于制备各种不同形貌的二氧化钛薄膜以开发新的应用领域。如二氧化钛纳米片/巢状层状结构薄膜被用作染料敏化太阳能电池的光阳极使其光电转换效率较普通二氧化钛薄膜提高了近10倍常萌蕾,李新军.物理化学报: 2012,28(6): 1368-1372;制备具有微米-纳米二元结构的二氧化钛薄膜以控制水在薄膜表面的润湿角,以实行自洁功能Adriano F. Feil, Daniel E. Weibel. ACS Applied Materials Interface, 2011,3(10): 3981-3987);软光刻技术被用来制备表面具有微米尺度结构的薄膜,以制备各种薄膜器件,但其工艺复杂,成本高Sajid Ullah Khan,Johan Eten Elshof. Science Andtechnology of Advance Materials: 2012,13,025002(9pp);最近,理论计算表明具有折叠或具有曲率的二氧化钛薄膜可用于制备波纹光催化反应器(Adam A, Donaldson,Zisheng Zhang. AIChE Journal, 2012 ,5(58): 1578-1587),但实验制备具有折叠或具有曲率的二氧化钛薄膜还没有报导,传统利用气相沉积设备制备二氧化钛薄膜,设备复杂,成本昂贵,制得的均为表面光滑的二氧化钛薄膜,还没有专门用于制备表面具有凸起的二氧化钛薄膜的沉积装置,尤其是在只有理论计算而要进行实验验证的情况下,传统设备增加了实验成本和设备运作成本,因此,提供一种实验室条件下的成本低廉且效果理想的薄膜沉积装置,是十分必要的。
实用新型内容
为解决现有技术中薄膜沉积的常规装置存在的结构复杂、成本昂贵、运转成本高,没有专门用于制备表面具有凸起的二氧化钛薄膜的沉积装置等问题,本实用新型提供了一种表面具有凸起的二氧化钛薄膜的沉积装置。
本实用新型为解决上述问题所采用的技术方案为:一种表面具有凸起的二氧化钛薄膜的沉积装置,包括由坩埚和与坩埚相配合的坩埚盖所形成的封闭反应腔,反应腔的底壁上设有用于盛放钛源的凹槽,反应腔内还设有设置在凹槽上方的衬底,所述的衬底下表面距离反应腔底壁的垂直高度为5-25mm。
所述的凹槽的深度为1-5mm。
所述衬底通过固定支架设置在凹槽上方。
所述衬底通过衬底挡板设置在凹槽上方。
本实用新型中的固定支架是石英玻璃支架、普通玻璃支架或陶瓷固定支架,衬底是石英玻璃衬底、导电玻璃衬底或陶瓷衬底,固定支架、衬底挡板、衬底的材质均根据钛源的类型进行选择,以不引入杂质为准。
有益效果:本实用新型的装置适用于实验室条件下,不必在该装置的基础上另设辅助装置,减少了实验的成本和设备的运转成本;在使用时,只需将该装置放入加热装置如加热炉内,通过设定所需的参数,即可进行实验操作,制得所需的表面具有凸起的薄膜,设备成本低廉且制得的薄膜效果理想。
附图说明
图1为本实用新型中实施例1的结构示意图;
图2为本实用新型中实施例2的结构示意图。
附图标记:1、坩埚,2、坩埚盖,3、衬底,4、固定支架,5、凹槽,6、衬底挡板。
具体实施方式
以下结合附图及实施例进一步阐述本实用新型,对依据本实用新型提供的一种表面具有凸起的二氧化钛薄膜的沉积装置作具体的说明。
实施例1
如图1所示,一种表面具有凸起的二氧化钛薄膜的沉积装置,包括由坩埚1和与坩埚1相配合的坩埚盖2所形成的封闭反应腔,反应腔的底壁上设有用于盛放钛源的凹槽5,凹槽5的深度为3mm,反应腔内还设有通过固定支架4设在凹槽5上方的衬底3,衬底3与固定支架4垂直设置,使衬底3的上下表面保持水平,衬底3下表面距离反应腔底壁的垂直高度为15mm。
实施例2
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