[实用新型]止推支承结构、轴承壳体以及涡旋机有效

专利信息
申请号: 201320006680.9 申请日: 2013-01-06
公开(公告)号: CN203412765U 公开(公告)日: 2014-01-29
发明(设计)人: 哈里·B·克伦德宁;孙伟;尼古拉斯·J·阿尔特施塔特 申请(专利权)人: 艾默生环境优化技术有限公司
主分类号: F04C29/00 分类号: F04C29/00;F04C18/02
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 魏金霞;黄霖
地址: 美国俄*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 支承 结构 轴承 壳体 以及 涡旋
【权利要求书】:

1.一种止推支承结构,所述止推支承结构用于具有第一工作构件和第二工作构件的压缩机,其特征在于,所述止推支承结构包括:

轴向面向的止推表面,所述止推表面构造成支撑所述第一工作构件和所述第二工作构件中的一者;

第一表面,所述第一表面与所述止推表面相邻;

第二表面,所述第二表面与所述止推表面相邻;

环形的底切特征,所述底切特征形成在所述第一表面和所述第二表面中的仅仅一者中,所述第一表面和所述第二表面中的所述一者包括在轴向上设置在所述止推表面与所述底切特征的第一轴向端之间的第一径向面向部以及设置成与所述底切特征的第二轴向端相邻的第二径向面向部,所述第二径向面向部与驱动轴轴承间隔开。

2.根据权利要求1所述的止推支承结构,其中,所述第一表面和所述第二表面为环形表面。

3.根据权利要求1所述的止推支承结构,其中,所述底切特征形成在所述第一表面中,并且,所述第一表面相对于所述第二表面径向向内地设置。

4.根据权利要求1所述的止推支承结构,其中,所述底切特征包括与所述第一表面和所述第二表面大致平行且同轴的轴向延伸表面。

5.根据权利要求1所述的止推支承结构,其中,所述底切特征包括V形横截面。

6.根据权利要求1所述的止推支承结构,其中,所述底切特征包括U形横截面。

7.根据权利要求1所述的止推支承结构,其中,所述底切特征的径向深度小于或等于所述止推表面与所述底切特征之间的轴向距离的大约五分之一。

8.根据权利要求1所述的止推支承结构,其中,所述底切特征的径向深度介于所述止推表面与所述底切特征之间的轴向距离的大约五分之一与大约二倍之间。

9.根据权利要求1所述的止推支承结构,其中,所述底切特征的径向深度介于所述止推表面与所述底切特征之间的轴向距离的大约二倍与大约八倍之间。

10.根据权利要求1所述的止推支承结构,其中,所述底切特征的径向深度大于或等于所述止推表面与所述底切特征之间的轴向距离的大约八倍。

11.根据权利要求1所述的止推支承结构,其中,所述底切特征包括至少大约2.5毫米的轴向尺寸。

12.一种轴承壳体,其特征在于,包括:

本体部,所述本体部包括径向向内面向的第一环形表面;

毂部,所述毂部从所述本体部轴向地延伸并且包括适于可旋转地支撑轴的径向向内面向的第二环形表面;

止推支承结构,所述止推支承结构从所述本体部轴向地延伸并且包括外表面、内表面、位于所述外表面与所述内表面之间的止推表面以及形成在所述外表面和所述内表面中的一者中的底切特征,所述底切特征限定所述止推支承结构的悬置部,所述底切特征与所述第一环形表面直接相邻。

13.根据权利要求12所述的轴承壳体,其中,所述底切特征形成在所述外表面中。

14.根据权利要求12所述的轴承壳体,其中,所述底切特征形成在所述内表面中。

15.根据权利要求14所述的轴承壳体,还包括形成在所述外表面中并且限定所述止推支承结构的另一悬置部的另一底切特征。

16.根据权利要求12所述的轴承壳体,其中,所述外表面和所述内表面为环形表面,并且所述止推表面为轴向面向的表面。

17.根据权利要求12所述的轴承壳体,其中,所述止推支承结构的所述内表面与所述本体部的所述第一环形表面彼此大致径向地对齐。

18.根据权利要求12所述的轴承壳体,其中,所述底切特征的径向深度小于或等于所述止推表面与所述底切特征之间的轴向距离的大约五分之一。

19.根据权利要求12所述的轴承壳体,其中,所述底切特征的径向深度介于所述止推表面与所述底切特征之间的轴向距离的大约五分之一与大约二倍之间。

20.根据权利要求12所述的轴承壳体,其中,所述底切特征的径向深度介于所述止推表面与所述底切特征之间的轴向距离的大约二倍与大约八倍之间。

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