[发明专利]自‑组装结构、其制造方法和包含其的制品有效

专利信息
申请号: 201310757186.0 申请日: 2013-11-19
公开(公告)号: CN104049463B 公开(公告)日: 2017-09-12
发明(设计)人: J·W·撒克里;P·特雷福纳斯三世;赵祥浩;G·孙;K·L·伍利 申请(专利权)人: 罗门哈斯电子材料有限公司;得克萨斯A&M大学系统
主分类号: G03F7/038 分类号: G03F7/038;G03F7/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司31100 代理人: 胡嘉倩
地址: 美国马*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 组装 结构 制造 方法 包含 制品
【权利要求书】:

1.一种组合物,所述组合物包含:

接枝嵌段共聚物,其包含:

第一嵌段聚合物;所述第一嵌段聚合物包含主链聚合物和第一接枝聚合物;其中所述第一接枝聚合物包含表面能降低的部分;和

第二嵌段聚合物;所述第二嵌段聚合物共价连接到所述第一嵌段聚合物;其中所述第二嵌段聚合物包含所述主链聚合物和第二接枝聚合物;其中所述第二接枝聚合物包含对交联所述接枝嵌段共聚物有效的官能团;

光酸产生剂;和

交联剂。

2.权利要求1的组合物,其中所述主链聚合物是聚降冰片烯。

3.权利要求1的组合物,其中所述第一接枝聚合物是聚(氟代苯乙烯)、聚(四氟-羟基苯乙烯)、或它们的组合。

4.权利要求1的组合物,其中所述第一接枝聚合物是聚(四氟-对-羟基苯乙烯)。

5.权利要求1的组合物,其中所述第二接枝聚合物是聚(羟基苯乙烯)和聚(N-苯基马来酰亚胺)的共聚物。

6.权利要求5的组合物,其中所述聚(羟基苯乙烯)和聚(N-苯基马来酰亚胺)的摩尔比是1:1。

7.权利要求1的组合物,其中所述光酸产生剂包含锍盐和所述交联剂是N,N,N',N',N",N"-六(甲氧基甲基)-1,3,5-三嗪-2,4,6-三胺(HMMM)。

8.权利要求1的组合物,其中所述接枝嵌段共聚物的用量是50-80wt%、所述光酸产生剂的用量是5-25wt%和所述交联剂用量是5-25wt%,所述重量以所述组合物的总重量为基准。

9.一种制造光致抗蚀剂的方法,所述方法包括∶

混合组合物,所述组合物包含:

接枝嵌段共聚物,所述接枝嵌段共聚物包含:

第一嵌段聚合物;所述第一嵌段聚合物包含主链聚合物和第一接枝聚合物;其中所述第一接枝聚合物包含表面能降低的部分;和

第二嵌段聚合物;所述第二嵌段聚合物共价连接到所述第一嵌段;其中所述第二嵌段包含所述主链聚合物和第二接枝聚合物;其中所述第二接枝聚合物包含对交联所述接枝嵌段共聚物有效的官能团;

光酸产生剂;和

交联剂;

将所述组合物置于基材上;

在所述基材上形成膜;

将掩模置于所述膜上;

将所述膜曝光于电磁辐射来形成包含瓶-刷状结构的交联膜;

烘焙所述膜;和

溶解所述膜的未反应部分。

10.权利要求9的方法,其中所述电磁辐射是远紫外辐射、电子束辐射、中子束、离子辐射,和X-射线辐射。

11.权利要求9的方法,所述方法进一步包括使用所述膜作为光致抗蚀剂。

12.权利要求11的方法,其中所述光致抗蚀剂是负性光致抗蚀剂。

13.权利要求11的方法,其中对所述组合物进行退火。

14.权利要求11的方法,其中所述组合物进一步包含溶剂。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于罗门哈斯电子材料有限公司;得克萨斯A&M大学系统,未经罗门哈斯电子材料有限公司;得克萨斯A&M大学系统许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310757186.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top