[发明专利]自‑组装结构、其制造方法和包含其的制品有效
| 申请号: | 201310757186.0 | 申请日: | 2013-11-19 |
| 公开(公告)号: | CN104049463B | 公开(公告)日: | 2017-09-12 |
| 发明(设计)人: | J·W·撒克里;P·特雷福纳斯三世;赵祥浩;G·孙;K·L·伍利 | 申请(专利权)人: | 罗门哈斯电子材料有限公司;得克萨斯A&M大学系统 |
| 主分类号: | G03F7/038 | 分类号: | G03F7/038;G03F7/00 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人: | 胡嘉倩 |
| 地址: | 美国马*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 组装 结构 制造 方法 包含 制品 | ||
1.一种组合物,所述组合物包含:
接枝嵌段共聚物,其包含:
第一嵌段聚合物;所述第一嵌段聚合物包含主链聚合物和第一接枝聚合物;其中所述第一接枝聚合物包含表面能降低的部分;和
第二嵌段聚合物;所述第二嵌段聚合物共价连接到所述第一嵌段聚合物;其中所述第二嵌段聚合物包含所述主链聚合物和第二接枝聚合物;其中所述第二接枝聚合物包含对交联所述接枝嵌段共聚物有效的官能团;
光酸产生剂;和
交联剂。
2.权利要求1的组合物,其中所述主链聚合物是聚降冰片烯。
3.权利要求1的组合物,其中所述第一接枝聚合物是聚(氟代苯乙烯)、聚(四氟-羟基苯乙烯)、或它们的组合。
4.权利要求1的组合物,其中所述第一接枝聚合物是聚(四氟-对-羟基苯乙烯)。
5.权利要求1的组合物,其中所述第二接枝聚合物是聚(羟基苯乙烯)和聚(N-苯基马来酰亚胺)的共聚物。
6.权利要求5的组合物,其中所述聚(羟基苯乙烯)和聚(N-苯基马来酰亚胺)的摩尔比是1:1。
7.权利要求1的组合物,其中所述光酸产生剂包含锍盐和所述交联剂是N,N,N',N',N",N"-六(甲氧基甲基)-1,3,5-三嗪-2,4,6-三胺(HMMM)。
8.权利要求1的组合物,其中所述接枝嵌段共聚物的用量是50-80wt%、所述光酸产生剂的用量是5-25wt%和所述交联剂用量是5-25wt%,所述重量以所述组合物的总重量为基准。
9.一种制造光致抗蚀剂的方法,所述方法包括∶
混合组合物,所述组合物包含:
接枝嵌段共聚物,所述接枝嵌段共聚物包含:
第一嵌段聚合物;所述第一嵌段聚合物包含主链聚合物和第一接枝聚合物;其中所述第一接枝聚合物包含表面能降低的部分;和
第二嵌段聚合物;所述第二嵌段聚合物共价连接到所述第一嵌段;其中所述第二嵌段包含所述主链聚合物和第二接枝聚合物;其中所述第二接枝聚合物包含对交联所述接枝嵌段共聚物有效的官能团;
光酸产生剂;和
交联剂;
将所述组合物置于基材上;
在所述基材上形成膜;
将掩模置于所述膜上;
将所述膜曝光于电磁辐射来形成包含瓶-刷状结构的交联膜;
烘焙所述膜;和
溶解所述膜的未反应部分。
10.权利要求9的方法,其中所述电磁辐射是远紫外辐射、电子束辐射、中子束、离子辐射,和X-射线辐射。
11.权利要求9的方法,所述方法进一步包括使用所述膜作为光致抗蚀剂。
12.权利要求11的方法,其中所述光致抗蚀剂是负性光致抗蚀剂。
13.权利要求11的方法,其中对所述组合物进行退火。
14.权利要求11的方法,其中所述组合物进一步包含溶剂。
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