[发明专利]反应腔室的清洗方法在审
| 申请号： | 201310752377.8 | 申请日： | 2013-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN104741340A | 公开（公告）日： | 2015-07-01 |
| 发明（设计）人： | 王京 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00;C30B33/12 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 反应 清洗 方法 | ||
1.一种反应腔室的清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：
主清洗步骤，向反应腔室内通入不含氟气体，并开启激励电源，而偏压电源保持关闭状态，以快速清除沉积在反应腔室内的绝大部分反应副产物；
辅助清洗步骤，继续向反应腔室内通入不含氟气体，并保持所述激励电源开启，同时开启偏压电源，以清除残留在所述反应腔室各个位置处的反应副产物；
其中，所述不含氟气体为氧气和惰性气体的混合气体。
2.如权利要求1所述的反应腔室的清洗方法，其特征在于，在所述主清洗步骤中，所述氧气在所述不含氟气体的总含量中的占比至少为90%。
3.如权利要求1或2所述的反应腔室的清洗方法，其特征在于，在所述辅助清洗步骤中，所述氧气在所述不含氟气体的总含量中的占比至少为75%。
4.如权利要求1所述的反应腔室的清洗方法，其特征在于，所述惰性气体包括氦气或氩气。
5.如权利要求1所述的反应腔室的清洗方法，其特征在于，在所述辅助清洗步骤中，所述偏压电源输出的偏压功率的取值范围在20～200W。
6.如权利要求5所述的反应腔室的清洗方法，其特征在于，在所述辅助清洗步骤中，所述偏压电源输出的偏压功率的取值范围在50～125W。
7.如权利要求1所述的反应腔室的清洗方法，其特征在于，在所述主清洗步骤中，所述反应腔室的腔室压力的范围在60～100mT。
8.如权利要求7所述的反应腔室的清洗方法，其特征在于，在所述主清洗步骤中，所述反应腔室的腔室压力的范围在80～85mT。
9.如权利要求1所述的反应腔室的清洗方法，其特征在于，在所述辅助清洗步骤中，所述反应腔室的腔室压力的范围在2～10mT。
10.如权利要求9所述的反应腔室的清洗方法，其特征在于，在所述辅助清洗步骤中，所述反应腔室的腔室压力的范围在4～7mT。
11.如权利要求1所述的反应腔室的清洗方法，其特征在于，在所述主清洗步骤和辅助清洗步骤中，所述氧气的流量的取值范围在100～400sccm；所述惰性气体的流量的取值范围在5～50sccm。
12.如权利要求11所述的反应腔室的清洗方法，其特征在于，在所述主清洗步骤和辅助清洗步骤中，所述氧气的流量的取值范围在200～300sccm；所述惰性气体的流量的取值范围在10～30sccm。
13.如权利要求1所述的反应腔室的清洗方法，其特征在于，在所述主清洗步骤和辅助清洗步骤中，所述激励电源输出的激励功率的取值范围在1500～2500W。
14.如权利要求13所述的反应腔室的清洗方法，其特征在于，在所述辅助清洗步骤和辅助清洗步骤中，所述激励电源输出的激励功率的取值范围在1800～2200W。
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