[发明专利]一种遮挡盘传输装置、反应腔室及等离子体加工设备

权利要求书

1.一种遮挡盘传输装置，用于在反应腔室内的安全位置与承载装置上方之间传输遮挡盘，其特征在于，所述遮挡盘传输装置包括气缸、承载臂、第一检测装置、第二检测装置、第三检测装置和第四检测装置；其中，所述承载臂上放置有遮挡盘；所述气缸固定于反应腔室的腔室壁上，其活塞杆与所述承载臂连接，用于驱动所述承载臂在水平面内作直线往复运动，使所述遮挡盘到达所述承载装置上方或安全位置；

所述第一检测装置和第二检测装置沿所述气缸内活塞的运动行程，在所述气缸上间隔设置，其用于检测所述活塞的位置；且在气缸驱动遮挡盘到达承载装置上方时，所述气缸的活塞位于与所述第二检测装置对应的位置处，在气缸驱动遮挡盘到达安全位置时，所述气缸的活塞位于与所述第一检测装置对应的位置处；

所述第三检测装置设置在所述反应腔室的腔室壁上，其在竖直方向上与置于所述承载臂上的遮挡盘的内沿对应，且对应于所述承载臂的外侧；

所述第四检测装置设置在所述反应腔室的腔室壁上，其在竖直方向上与置于所述承载臂上的遮挡盘的外侧对应，且其位于所述遮挡盘在所述安全位置和承载装置上方之间的运动路径上。

2.根据权利要求1所述的遮挡盘传输装置，其特征在于，所述第一检测装置、第二检测装置、第三检测装置和第四检测装置均为传感器。

3.根据权利要求2所述的遮挡盘传输装置，其特征在于，所述第三检测装置和第四检测装置为漫反射式传感器。

4.根据权利要求3所述的遮挡盘驱动装置，其特征在于，所述第三检测装置和第四检测装置为检测距离可自由设定的漫反射式传感器。

5.根据权利要求1所述的遮挡盘驱动装置，其特征在于，所述活塞位于与所述第二检测装置对应的位置处时，其直线往复运动达到最大行程。

6.根据权利要求1或5所述的遮挡盘驱动装置，其特征在于，所述活塞位于与所述第一检测装置对应的位置处时，其直线往复运动达到最小行程。

7.根据权利要求1所述的遮挡盘驱动装置，其特征在于，所述气缸包括节流阀，所述节流阀用于调节所述气缸驱动所述承载臂作直线往复运动的速度。

8.一种反应腔室，其内部设有承载装置、遮挡盘和遮挡盘传输装置，其特征在于，所述遮挡盘传输装置采用权利要求1-7任意一项所述的遮挡盘传输装置。

9.一种等离子体加工设备，包括反应腔室，其特征在于，所述反应腔室采用权利要求8所述的反应腔室。