[发明专利]一种高强度的磁芯

权利要求书

1.一种高强度的磁芯，包括本体（4）和并列设置的第一伸出臂（1）、第二伸出臂（2）和第三伸出臂（3），第一伸出臂（1）、第二伸出臂（2）和第三伸出臂（3）大致沿同一方向从本体（4）伸出，第一伸出臂（1）、第二伸出臂（2）第三伸出臂（3）和本体（4）组成E字形结构，其特征在于，所述第一伸出臂（1）、第二伸出臂（2）、第三伸出臂（3）与本体（4）的连接处采用弧形过渡结构；所述弧形过渡结构的表面采用喷丸工艺处理形成晶粒尺寸从浅至深呈梯度分布的结构：0～0.04mm深度范围内，晶粒尺寸为20～40nm；0.04～0.1mm深度范围内，晶粒尺寸为30～80nm；0.1～0.2mm深度范围内，晶粒尺寸为60～150nm。 

2.如权利要求1所述的高强度的磁芯，其特征在于，所述第二伸出臂（2）位于第一伸出臂（1）和第三伸出臂（3）之间；所述第二伸出臂（2）的高度为第一伸出臂（1）的高度的1.8～2.2倍；所述第一伸出臂（1）、第二伸出臂（2）和第三伸出臂（3）的伸出长度和厚度相等。 

3.如权利要求2所述的高强度的磁芯，其特征在于，所述第一伸出臂（1）、第二伸出臂（2）、第三伸出臂（3）和本体（4）的密度之比为1:0.95～0.98:1:1.02～1.08。 

4.如权利要求3所述的高强度的磁芯，其特征在于，所述第一伸出臂（1）、第二伸出臂（2）、第三伸出臂（3）和本体（4）是采用压铸工艺一体成型的结构；压铸时，控制第一伸出臂（1）、第二伸出臂（2）、第三伸出臂（3）和本体（4）的压铸压力获得不同的密度。 

5.如权利要求3所述的高强度的磁芯，其特征在于，所述本体（4）的密度为磁芯材料的常规密度。 

6.如权利要求5所述的高强度的磁芯，其特征在于，所述第一伸出臂（1） 与所述本体（4）垂直；所述第二伸出臂（2）与所述本体（4）垂直；所述第三伸出臂（3）与所述本体（4）垂直。 

7.如权利要求5所述的高强度的磁芯，其特征在于，所述第一伸出臂（1）与所述本体（4）所成的角度为91～95°；所述第二伸出臂（2）与所述本体（4）垂直；所述第三伸出臂（3）与所述本体（4）所成的角度为-91～-95°。 

8.如权利要求7所述的高强度的磁芯，其特征在于，所述第一伸出臂（1）、第二伸出臂（2）、第三伸出臂（3）和本体（4）表面包括绕线部；所述绕线部采用激光烧蚀工艺烧制出深度不超过200μm的凹坑，所述凹坑的四周为高度不超过80μm的凸起，所述凹坑的直径不大于300μm；所述凹坑的分布密度不大于10个/mm²。 

9.如权利要求7所述的高强度的磁芯，其特征在于，所述第一伸出臂（1）、第二伸出臂（2）、第三伸出臂（3）和本体（4）的主体材料为铁镍基非晶合金；所述第一伸出臂（1）、第二伸出臂（2）、第三伸出臂（3）和本体（4）中分散有三维尺度不大于1mm的铁基纳米晶合金；所述第一伸出臂（1）、第二伸出臂（2）、第三伸出臂（3）和本体（4）中铁基纳米晶合金和铁镍基非晶合金的体积比分别为：0.1～0.2、0.15～0.4、0.1～0.2和0.4～0.5。 

10.如权利要求9所述的高强度的磁芯，其特征在于，所述第一伸出臂（1）、第二伸出臂（2）、第三伸出臂（3）和本体（4）中铁基纳米晶合金和铁镍基非晶合金的体积比分别为：0.15～0.18、0.25～0.35、0.15～0.18和0.44～0.48。