[发明专利]前体的制造方法、超导线材的制造方法、前体和超导线材有效
申请号: | 201310741439.5 | 申请日: | 2009-11-18 |
公开(公告)号: | CN103824647B | 公开(公告)日: | 2019-07-12 |
发明(设计)人: | 太田肇 | 申请(专利权)人: | 住友电气工业株式会社;东洋钢钣株式会社 |
主分类号: | H01B13/00 | 分类号: | H01B13/00;H01B12/00 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 杨海荣;穆德骏 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制造 方法 超导 线材 | ||
本发明涉及前体的制造方法、超导线材的制造方法、前体和超导线材。所述超导线材的制造方法包括如下步骤。准备层叠金属,所述层叠金属具有第一金属层和形成于所述第一金属层上的Ni层。在层叠金属的Ni层上形成中间层(20)。在中间层(20)上形成超导层(30)。通过在形成中间层(20)的步骤和形成超导层(30)的步骤的至少任一个之后,对层叠金属进行热处理,由所述层叠金属形成非磁性Ni合金层(12)。
本申请是申请日为2009年11月18日、申请号为200980147709.1的中国国家专利申请的分案申请。
技术领域
本发明涉及前体的制造方法、超导线材的制造方法、前体和超导线材。
背景技术
通常,使用具有基板、形成于基板上的中间层和形成于中间层上的超导层的超导线材。作为这种超导线材的基板,例如使用日本特开2006-127847号公报(专利文献1)、日本特表平11-504612号公报(专利文献2)等。
专利文献1公开了一种膜形成用取向基板,所述基板包括无取向非磁性的第一金属层和表层具有取向组织的第二金属层,其中第一金属层具有高于第二金属层的强度。专利文献2公开了一种具有合金化的双轴取向组织的金属基板。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2006-127847号公报
专利文献2:日本特表平11-504612号公报
发明内容
发明要解决的问题
然而,为了使用上述专利文献1和2的基板制造超导线材,必须在形成上述基板之后形成中间层和超导层。当专利文献1的第一金属层和专利文献2的金属基板是Ni(镍)合金时,如果要在该基板上形成中间层,则第一金属层和金属基板的表层会被氧化。存在如下问题:表层的氧化会不利地阻碍表层上中间层的形成。
当上述专利文献1的第一金属层是Ni时,则第一金属层的氧化被抑制。因此,可以在Ni层上形成中间层,因此能够形成超导线材。然而,因为Ni是铁磁性金属,所以由于Ni的磁滞损耗而使朝向超导线材横向端部的磁场集中。这导致超导线材的磁滞损耗增加的问题。
因此,完成了本发明以解决上述问题,本发明的目的是提供能够降低磁滞损耗的前体的制造方法、超导线材的制造方法、前体和超导线材。
解决问题的手段
本发明的前体制造方法包括如下步骤。准备层叠金属,所述层叠金属具有第一金属层和形成于所述第一金属层上的Ni层。在层叠金属的Ni层上形成中间层。在形成中间层的步骤之后,通过对层叠金属进行热处理,由所述层叠金属形成非磁性Ni合金层。
本发明的前体包括非磁性Ni合金层和形成于所述非磁性Ni合金层上的中间层。在非磁性Ni合金层中,Ni的浓度从与中间层的界面朝与所述界面相反的表面单调减少。
按照本发明的前体制造方法和前体,在Ni层上形成中间层。Ni难以被氧化,且显示优异的与中间层的晶格匹配。因此,可以容易地将中间层形成于Ni层上。通过在这种条件下对层叠金属进行热处理,使构成Ni层的Ni和构成第一金属层的第一金属合金化,从而能够形成Ni合金。能够使Ni合金的磁性小于Ni单质的磁性。换言之,可以由所述层叠金属形成非磁性Ni合金层。因此,当通过在前体的中间层上形成超导层而制造超导线材时,可以通过非磁性Ni合金层来减少朝向超导线材横向端部的磁场的集中。因此,能够实现能降低磁滞损耗的前体。
通过上述前体制造方法制造的前体,在形成中间层的步骤之后,通过对层叠金属进行热处理,由所述层叠金属形成非磁性Ni合金层。因此,在非磁性Ni合金层中,因为Ni在层叠金属中的扩散,Ni的浓度从与中间层的界面朝与所述界面相反的表面单调减少。
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