[发明专利]一种显示器装置及其制作方法有效
申请号: | 201310731238.7 | 申请日: | 2013-12-26 |
公开(公告)号: | CN103777407A | 公开(公告)日: | 2014-05-07 |
发明(设计)人: | 王辉;郭远辉;王春;陈俊生 | 申请(专利权)人: | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1339 | 分类号: | G02F1/1339;G02F1/1333;G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 宋焰琴 |
地址: | 230012 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示器 装置 及其 制作方法 | ||
技术领域
本发明涉及显示器技术领域,尤其是一种薄膜晶体管液晶显示器装置(以下称TFT-LCD)及其制造方法。
背景技术
在显示技术领域中,液晶显示面板以其体积小、功耗低、无辐射、分辨率高等优点,被广泛地应用于现代数字信息化设备中。
对于面板厂商,同一张母板玻璃切出的单元显示屏越多,产线盈利性就越强。为了区分每一块单元显示屏,在制作过程中,会在每个单元显示屏上制作Panel ID,由于每块单元显示屏的Panel ID都不一样,因此产线上需要用激光笔对每块单元显示屏依次进行标号。当一块母板玻璃中的单元显示屏数量少的时候,Panel ID的标记工作比较简单,占用产线的产能较少;但当一块母板玻璃上的单元显示屏数量较多的时候,Panel ID的标记工作就会比较繁琐,将会占用较多的产线产能。尤其是目前各面板世代线做的单元显示屏的尺寸越来越小,一块母板玻璃基板上有几百个单元显示屏,Panel ID的标记工作就变得比较棘手。有时考虑到产线的产能,就不标记单元显示屏的Panel ID了,这样就使得后段制作工序中出现的问题无法追溯到前段工序,大大降低了产线效率。另一方面,目前小尺寸显示屏的周边区域越来越小,而Panel ID本身会占用一定的空间,因此探讨小尺寸显示屏Panel ID的标记方法也是当务之急。
发明内容
为了解决上述现有技术存在的问题,本发明在现有工艺的基础上,一方面通过对液晶屏阵列基板的掩膜版进行特定的设计,将同批次曝光的单元显示屏区分开来,另一方面,在单元显示屏的周边区域设置特定形状的标示封框胶涂覆区域,通过该区域封框胶的涂覆长度,将不同批次曝光的单元显示屏区分开来,从而实现了单元显示屏Panel ID的标记。
根据本发明的一方面,提供一种显示器装置,该装置包括:阵列基板和彩膜基板,其中:
所述彩膜基板的部分内侧表面依次涂覆有黑矩阵和配向膜;
所述阵列基板的部分内侧表面涂覆有配向膜;
所述阵列基板和彩膜基板内侧表面的边缘通过封框胶粘接在一起;
位于所述显示器装置底部的电极端处的阵列基板的内侧表面上设置有第一标识区域,用于标识同批次曝光的单元显示屏;
所述封框胶垂直于所述阵列基板和彩膜基板的底部内侧、所述阵列基板和彩膜基板之间,设置有第二标识区域,用于标识不同批次曝光的单元显示屏。
根据本发明的另一方面,提供一种显示器装置的制作方法,该方法包括以下步骤:
在位于所述显示器装置底部的电极端处的阵列基板的内侧表面上设置第一标识区域,用于标识同批次曝光的单元显示屏;
在所述阵列基板和彩膜基板之间,设置第二标识区域,用于通过对于标示封框胶的涂覆来标识不同批次曝光的单元显示屏;
将所述阵列基板和彩膜基板内侧表面的边缘通过封框胶粘接在一起,其中,所述彩膜基板的部分内侧表面依次涂覆有黑矩阵和配向膜,所述阵列基板的部分内侧表面涂覆有配向膜。
本发明既解决了目前Panel ID标记工艺影响产线产能的问题,又解决了Panel ID占用显示屏周边较大空间的问题,本发明通过简单的工艺设计和变更,有效的提高了产线产能,同时优化了显示屏周边区域的设计空间。
附图说明
图1是一块母板玻璃上单元显示屏的排布示意图;
图2是曝光工艺形成的Panel ID的示意图;
图3是现有技术中一个单元显示屏的平面结构示意图;
图4是根据本发明一实施例的一单元显示屏的平面结构示意图;
图5是根据本发明一实施例的单元显示屏的周边区域的截面图;
图6是根据本发明一实施例的单元显示屏的封框胶的截面示意图;
图7是不同曝光批次显示屏的示意图;
图8是标示封框胶金属mark的结构示意图;
图9是不同曝光区域标示封框胶涂覆不同的长度的示意图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白,以下结合具体实施例,并参照附图,对本发明进一步详细说明。
图1是一块母板玻璃上单元显示屏的排布示意图,如图1所示,一张母板玻璃上排布有多片单元显示屏,比如图1中所示的54片,在阵列基板的制作过程中,由于各层膜曝光工艺的需求,一般一张母板玻璃需要分几次曝光,目前常见的工艺是图1所示的六次曝光工艺,但今后考虑到成本和产能,曝光工艺次数会越来越少。
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