[发明专利]一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液及其使用方法

权利要求书

1.一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液，其特征在于，所述抛光液包含研磨颗粒、唑类化合物、络合剂、聚丙烯酸类化合物和/或其盐、聚乙烯吡咯烷酮，氧化剂和水。

2.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述的研磨颗粒为二氧化硅、三氧化二铝、二氧化铈、掺杂铝的二氧化硅和/或聚合物颗粒。

3.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述的研磨颗粒的浓度为质量百分比1～20%。

4.如权利要求4所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述的研磨颗粒的浓度为质量百分比2～10%。

5.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述的研磨颗粒的粒径为20～150nm。

6.如权利要求5所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述的研磨颗粒的粒径为30～120nm。

7.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述的唑类化合物选自下列中的一种或多种：苯并三氮唑、甲基苯并三氮唑，5-苯基四氮唑，巯基苯基四氮唑，苯并咪唑，萘并三唑和/或2-巯基-苯并噻唑。

8.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述的唑类化合物的浓度为质量百分比0.001～2%。

9.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述的唑类化合物的浓度为质量百分比0.01～1%。

10.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述的络合剂为有机酸、有机磷酸和/或氨羧化合物中的一种或多种。

11.如权利要求10所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述的络合剂选自下列中的一种或多种乙酸、丙酸、草酸、丙二酸、丁二酸、柠檬酸、2-膦酸丁烷-1，2，4-三羧酸、氨基三甲叉膦酸、羟基乙叉二膦酸、乙二胺四甲叉膦酸、和/或甘氨酸。

12.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述的络合剂的浓度为质量百分比0.001～2%。

13.如权利要求12所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述的络合剂的浓度为质量百分比0.01～1%。

14.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述聚丙烯酸类化合物为聚丙烯酸，所述的盐为铵盐、钾盐或钠盐。

15.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述的聚丙烯酸类化合物和/或其盐的分子量为1000-20000。

16.如权利要求15所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述的聚丙烯酸类化合物和/或其盐的分子量为2000-10000。

17.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述的聚丙烯酸类化合物和/或其盐的浓度为质量百分比0.001～1%。

18.如权利要求17所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述的聚丙烯酸类化合物和/或其盐的浓度为质量百分比0.01～0.5%。

19.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述的聚乙烯吡咯烷酮的分子量为1000～1000000。

20.如权利要求19所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述的聚乙烯吡咯烷酮的分子量为1000～500000。

21.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述的聚乙烯吡咯烷酮的浓度为质量百分比0.001～2.0%。

22.如权利要求21所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述的聚乙烯吡咯烷酮的浓度为质量百分比0.01～1.0%。

23.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述的氧化剂选自下列中的一种或多种：过氧化氢、过氧乙酸，过硫酸钾和/或过硫酸铵。

24.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述的氧化剂的浓度为质量百分比0.01～5%。

25.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述的氧化剂的浓度为质量百分比0.1～2%。