[发明专利]喷嘴板、液体喷射头以及液体喷射装置有效
申请号: | 201310722229.1 | 申请日: | 2013-12-24 |
公开(公告)号: | CN103895347A | 公开(公告)日: | 2014-07-02 |
发明(设计)人: | 长门谷贤;内藤信宏;若松康介;中村宙哉 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | B41J2/14 | 分类号: | B41J2/14 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 李洋;舒艳君 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 喷嘴 液体 喷射 以及 装置 | ||
1.一种在硅基板设置有多个喷嘴开口的喷嘴板,
所述喷嘴板的特征在于,
在所述硅基板的两面以及所述喷嘴开口内表面设置有通过原子层堆积的方式所形成的氧化钽膜,在排出面的所述氧化钽膜层叠有硅材料的等离子体聚合膜。
2.根据权利要求1所述的喷嘴板,其特征在于,
所述氧化钽膜的厚度处于以上50nm以下的范围。
3.根据权利要求1或2所述的喷嘴板,其特征在于,
在所述氧化钽膜的下层形成有硅的热氧化膜。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的喷嘴板,其特征在于,
在所述硅材料的等离子体聚合膜上层叠有通过对金属醇化物膜实施退火处理而形成的疏液膜。
5.一种液体喷射头,其特征在于,
所述液体喷射头具备:
权利要求1~4中任一项所述的喷嘴板;流路形成基板,该流路形成基板与所述喷嘴板接合、且设置有与所述喷嘴开口连通的产生压力室;以及产生压力单元,该产生压力单元设置于所述流路形成基板的与所述喷嘴板相反的一侧,利用该产生压力单元而使所述产生压力室内的压力发生变化。
6.一种液体喷射装置,其特征在于,
所述液体喷射装置具备权利要求5所述的液体喷射头。
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