[发明专利]一种高效扩散的方法

权利要求书

1.一种高效扩散的方法，其特征在于，包括如下步骤：

a）将硅片置于扩散炉中，通入含有磷源的气体，对所述硅片进行第一次扩散；

b）对所述硅片的方阻进行检测，当所述硅片的方阻值比预定值低4Ω/□～8Ω/□时，在690℃～720℃的温度下，对所述硅片进行第二次扩散；

c）在氮气保护下，对所述硅片进行出炉操作。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在执行所述步骤b）时，对所述扩散炉中通入氧气和氮气组成的保护气体。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，在所述保护气体中，氧气的含量为0～30%。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤b）的执行时间为20min～40min。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤a）进一步为将硅片置于扩散炉中，并向扩散炉中通入含有磷源的小N₂，N₂和O₂对所述硅片进行第一次扩散。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述第一次扩散的温度为860℃～890℃。

7.根据权利要求5或6所述的方法，其特征在于，所述第一次扩散中，各气体通量范围如下：小N₂：1.8～2.3slm；N₂：15～21slm；O₂：1.1～1.4slm。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤a）的执行时间为15min～20min。

9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤c）具体为，在氮气保护下，保持温度为690℃～720℃，将所述硅片从所述扩散炉中取出。

10.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤c）中通入的氮气的通量范围为15slm～21slm。