[发明专利]一种涂布机喷嘴清洁装置

说明书

技术领域

本发明属于液晶显示器制造的线性涂胶技术领域，特别涉及一种涂布机喷嘴清洁装置。

背景技术

目前，在显示面板的生产过程的光刻胶涂胶工艺中，普遍使用线性光刻胶涂布机（狭缝涂布机）。光阻涂布过程中普遍存在凝胶问题。即光阻涂布完成后，部分光刻胶残留在喷嘴尖端和周围。当喷嘴尖端处于不清洁状态下进行涂布会形成缺陷，并严重影响产品良率。一般在进行每片玻璃的光刻胶涂布前，会使用橡胶作为喷嘴的清洁材料。但是由于橡胶的吸水性差，以橡胶清洁喷嘴无法将多余的光刻胶清除。

发明内容

本发明的目的在于，提供一种涂布机喷嘴清洁装置，其可以清除残留在喷嘴上的光刻胶。

本发明通过如下技术方案实现：一种涂布机喷嘴清洁装置，其中，所述涂布机喷嘴清洁装置包括清洁器、去胶溶剂供应装置、排液装置，所述清洁器具有与喷嘴匹配的凹槽，所述凹槽的侧壁上设置有去胶溶剂供应孔，所述去胶溶剂供应装置与所述去胶溶剂供应孔连接以供应去胶溶剂至所述凹槽内，所述凹槽的底壁上设置有排液孔，所述排液装置与所述排液孔连接。

作为上述技术方案的进一步改进，所述凹槽的两个侧壁上均设置有多个所述去胶溶剂供应孔。

作为上述技术方案的进一步改进，所述凹槽的两个相对的侧壁上分别设置有至少一排去胶溶剂供应孔和至少一排去胶溶剂供应孔，所述至少一排去胶溶剂供应孔和所述至少一排去胶溶剂供应孔沿所述清洁器的长度方向排列。

作为上述技术方案的进一步改进，所述排液孔与喷嘴的光刻胶喷出孔在竖直方向上不重叠。

作为上述技术方案的进一步改进，所述凹槽的底壁上设置有一排或两排所述排液孔。

作为上述技术方案的进一步改进，所述清洁器的凹槽与喷嘴之间具有匹配间隙。

作为上述技术方案的进一步改进，所述去胶溶剂供应孔沿所述清洁器的长度方向设置有一排或两排。

作为上述技术方案的进一步改进，所述清洁器的长度与所述喷嘴的长度相等。

作为上述技术方案的进一步改进，所述清洁器为橡胶清洁器。

作为上述技术方案的进一步改进，所述去胶溶剂供应装置包括容纳去胶溶剂的压力罐，所述压力罐经管道与所述去胶溶剂供应孔连接，所述排液装置包括真空泵，所述真空泵经管道与所述排液孔连接，所述排液装置还包括废液罐，所述真空泵与所述废液罐连接。

本发明的有益效果是：所述涂布机喷嘴清洁装置包括清洁器、去胶溶剂供应装置、排液装置，所述清洁器具有与喷嘴匹配的凹槽，所述凹槽的侧壁上设置有去胶溶剂供应孔，所述凹槽的底壁上设置有排液孔，通过去胶溶剂溶解残留在喷嘴上的光刻胶，并经排液孔将其排出，顺畅地清除残留在喷嘴上的光刻胶。

附图说明

图1是根据本发明的一个具体实施例的涂布机喷嘴清洁装置的示意图；

图2是图1的涂布机喷嘴清洁装置的清洁器与喷嘴配合状态的透视示意图；

图3是图1的涂布机喷嘴清洁装置的清洁器与喷嘴配合状态的透视立体示意图；

图4是图1的涂布机喷嘴清洁装置的清洁器的仰视示意图；

图5是根据本发明的另一个具体实施例的涂布机喷嘴清洁装置的示意图；

图6是根据本发明的再一个具体实施例的涂布机喷嘴清洁装置的清洁器与喷嘴配合状态的透视立体示意图；

图7是根据本发明的又一个具体实施例的涂布机喷嘴清洁装置的仰视示意图。

具体实施方式

以下结合附图对本发明的具体实施方式进行进一步的说明。

如图1至图4所示，本发明的涂布机喷嘴清洁装置在清洁器的两侧内壁上设置去胶溶剂供应孔202、去胶溶剂供应孔204，在底壁上设置一排排液孔206。但本发明不限于此，例如在图7所示的实施例中，在底壁上设置两排排液孔206。如图2所示，所述清洁器200的凹槽210与喷嘴100之间具有匹配间隙600，该匹配间隙600可用作清洗空间和去胶溶剂的流通路径，将去胶溶剂供应孔202、去胶溶剂供应孔204与排液孔206连通。当完成玻璃涂布而回到原点清洁时，将该橡胶清洁器升起，与整个喷嘴两侧和底部平行贴合，其间留少量缝隙（即匹配间隙600）。通过高压管道将去胶溶剂供应孔204与容纳去胶溶剂的压力罐302连接，将去胶溶剂高压喷射到喷嘴100的两侧，残留的光刻胶在高压的去胶溶剂下冲洗溶解。而排液孔206与真空泵504连接，通过真空泵504将去胶溶剂及溶解的光刻胶迅速排出。