[发明专利]一种纳米级光栅的制备方法无效
| 申请号： | 201310716503.4 | 申请日： | 2013-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN103645533A | 公开（公告）日： | 2014-03-19 |
| 发明（设计）人： | 孟现柱;王明红;张黎明;任忠民 | 申请（专利权）人： | 聊城大学 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 252059*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 光栅 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种纳米级光栅，其特征在于：光栅的亮条纹和暗条纹由多层膜各层薄膜材料的横截面构成，其中亮条纹为多层膜中反光材料薄膜的横截面，能够反射特定波长的光波，暗条纹为多层膜中透光材料(或吸光材料)薄膜的横截面，能够透射(或吸收)特定波长的光波。
2.根据权利要求1所述的纳米级光栅，其特征在于：所述光栅由多层膜各层薄膜材料的横截面构成。
3.一种纳米级光栅制备方法，其特征在于：首先利用多层膜制备技术，由反光材料和透光材料(或吸光材料)交替沉积形成一定厚度的多层膜，然后垂直于多层膜中各层薄膜对多层膜进行切割得到平面反射光栅，其中多层膜中反光材料薄膜和透光材料(或吸光材料)薄膜的横截面分别构成光栅的亮条纹和暗条纹。
4.根据权利要求3所述的纳米级光栅制备方法，其特征在于：所述光栅为对多层膜进行切割得到。
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