[发明专利]形状对应方法及装置

权利要求书

1.一种形状对应方法，包括以下步骤：

构造待对应形状的排列相似矩阵和特征相似矩阵；

根据所述排列相似矩阵和特征相似矩阵构建联合相似矩阵；

对所述联合相似矩阵进行谱分解，得到联合谱嵌入坐标；

根据所述联合谱嵌入坐标对所述待对应形状作形状对应。

2.如权利要求1所述的形状对应方法，其特征在于，所述构造待对应形状的排列相似矩阵和特征相似矩阵的步骤中，所述构造待对应形状的排列相似矩阵的步骤包括：

使用测地距离度量待对应形状内两个特征点的内蕴距离；

采用高斯函数映射所述内蕴距离，构造待对应形状的排列相似矩阵。

3.如权利要求1所述的形状对应方法，其特征在于，所述构造待对应形状的排列相似矩阵和特征相似矩阵的步骤中，所述构造待对应形状的特征相似矩阵的步骤包括：

使用热核描述符度量待对应形状间两个特征点的局部属性相似距离；

根据所述局部属性相似距离构造待对应形状的特征相似矩阵。

4.如权利要求1所述的形状对应方法，其特征在于，所述根据所述联合谱嵌入坐标对所述待对应形状作形状对应的步骤包括：

根据所述联合谱嵌入坐标，得到所述待对应形状间特征点的对应映射函数；

最小化所述对应映射函数，得到形状对应结果；

根据所述形状对应结果对所述待对应形状作形状对应。

5.如权利要求4所述的形状对应方法，其特征在于，根据所述联合谱嵌入坐标，得到所述待对应形状间特征点的对应映射函数的步骤具体为：根据所述联合谱嵌入坐标，采用欧式距离度量所述待对应形状间特征点的对应映射函数。

6.一种形状对应装置，其特征在于，包括：

第一构造模块，用于构造待对应形状的排列相似矩阵和特征相似矩阵；

第二构造模块，用于根据所述排列相似矩阵和特征相似矩阵构建联合相似矩阵；

谱分解模块，用于对所述联合相似矩阵进行谱分解，得到联合谱嵌入坐标；

形状对应模块，用于根据所述联合谱嵌入坐标对所述待对应形状作形状对应。

7.如权利要求6所述的形状对应装置，其特征在于，所述第一构造模块包括：

空间排列距离度量模块，用于使用测地距离度量待对应形状内两个特征点的内蕴距离；

排列相似矩阵构建模块，用于采用高斯函数映射所述内蕴距离，构造待对应形状的排列相似矩阵。

8.如权利要求6所述的形状对应装置，其特征在于，所述第一构造模块包括：

局部属性相似距离度量模块，用于使用热核描述符度量待对应形状间两个特征点的局部属性相似距离；

特征相似矩阵构造模块，用于根据所述局部属性相似距离构造待对应形状的特征相似矩阵。

9.如权利要求6所述的形状对应装置，其特征在于，所述形状对应模块包括：

函数构建模块，用于根据所述联合谱嵌入坐标，得到所述待对应形状间特征点的对应映射函数；

求值模块，用于最小化所述对应映射函数，得到形状对应结果；

特征对应模块，用于根据所述形状对应结果对所述待对应形状作形状对应。

10.如权利要求9所述形状对应装置，其特征在于，所述函数构建模块用于根据所述联合谱嵌入坐标，采用欧氏距离度量所述待对应形状间特征点的对应函数。