[发明专利]一种应用于石英基材的碳化硼梯度涂层及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201310693535.7 申请日: 2013-12-17
公开(公告)号: CN104711503B 公开(公告)日: 2018-06-26
发明(设计)人: 王文东;夏洋;李楠 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所;北京美桥电子设备有限公司
主分类号: C23C4/10 分类号: C23C4/10;B22F1/00
代理公司: 北京华沛德权律师事务所 11302 代理人: 刘杰
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 石英基材 梯度涂层 碳化硼粉末 二氧化硅粉末 碳化硼涂层 混合喷涂 碳化硼 喷涂 制备 半导体刻蚀机 物性 界面结合 界面应力 石英表面 梯度变化 防蚀 内衬 突变 应用
【权利要求书】:

1.一种应用于石英基材的碳化硼梯度涂层的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

步骤(1),将第一百分含量的二氧化硅粉末与第二百分含量的碳化硼粉末混合成第一混合粉末,将第三百分含量的二氧化硅粉末与第四百分含量的碳化硼粉末混合成第二混合粉末,同时选择纯碳化硼粉末备用;

步骤(2),使用丙酮和无水乙醇对所述石英基材的表面进行清洗;

步骤(3),将所述第一混合粉末、第二混合粉末和纯碳化硼粉末通过等离子喷涂设备依次等离子喷涂在所述石英基材的表面,制备出碳化硼梯度涂层;

其中,所述步骤(1)中的第一混合粉末、第二混合粉末和纯碳化硼粉末的粒度范围为5~50μm;

其中,所述第一百分含量和所述第二百分含量之和为100%,所述第三百分含量和所述第四百分含量之和为100%,所述第三百分含量小于所述第一百分含量,所述第四百分含量大于所述第二百分含量;

其中,所述步骤(3)中所述等离子喷涂设备使用的离子气体为Ar和H2,Ar气体的流量为40~90L/min,H2气体的流量为5~20L/min;

其中,所述步骤(3)中等离子喷涂的过程中,采用压缩空气喷吹方法或者循环水冷方法来冷却所述石英基材,所述压缩空气喷吹方法中冷却气体的流量为100~2000L/min,所述循环水冷方法中冷却水的流量为10~500L/min。

2.如权利要求1所述的应用于石英基材的碳化硼梯度涂层的制备方法,其特征在于,所述步骤(3)中等离子喷涂设备的电弧电压为40~90V,电弧电流为600~900A,送粉速度为15~100g/min,喷涂距离为60~140mm,粉斗搅拌速度5~40r/min,送粉角度为50°~90°,机械手移动速度为300~1000mm/s。

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