[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示面板有效
申请号: | 201310690031.X | 申请日: | 2013-12-16 |
公开(公告)号: | CN103698945A | 公开(公告)日: | 2014-04-02 |
发明(设计)人: | 周波;刘晓那;宋勇志 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1339 | 分类号: | G02F1/1339;G02F1/1333 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;黄灿 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 阵列 及其 制备 方法 显示 面板 | ||
1.一种阵列基板,所述阵列基板的上方具有一保护层,所述保护层上具有一隔垫物支撑区域,其特征在于,所述保护层上设置有一电荷传递层,所述电荷传递层的至少一部分位于所述隔垫物支撑区域内,所述阵列基板上还设置有一静电释放单元,所述电荷传递层与所述静电释放单元电连接。
2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述电荷传递层完全覆盖所述隔垫物支撑区域。
3.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述保护层对应所述隔垫物支撑区域具有一第一过孔,所述电荷传递层填充所述第一过孔。
4.根据权利要求1-3任一项所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板上具有公共信号线,所述静电释放单元为所述公共信号线,所述保护层在所述公共信号线的上方形成有一第二过孔,所述电荷传递层通过所述第二过孔与所述公共信号线电连接。
5.根据权利要求1-3任一项所述的阵列基板,其特征在于,所述电荷传递层和所述阵列基板的像素电极为通过一次构图工艺形成。
6.根据权利要求1-3任一项所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板为水平电场型阵列基板。
7.一种显示面板,包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板,所述彩膜基板上形成有隔垫物,其特征在于,所述阵列基板采用权利要求1-6任一项所述的阵列基板,所述隔垫物与所述电荷传递层接触设置。
8.一种阵列基板的制作方法,其特征在于,包括:
在保护层上形成一与静电释放单元电连接的电荷传递层,所述电荷传递层的至少一部分位于保护层上的隔垫物支撑区域内。
9.根据权利要求8所述的阵列基板的制作方法,其特征在于,所述电荷传递层完全覆盖所述隔垫物支撑区域。
10.根据权利要求8所述的阵列基板的制作方法,其特征在于,还包括:
在保护层上对应所述隔垫物支撑区域形成第一过孔,所述电荷传递层填充所述第一过孔。
11.根据权利要求8-10任一项所述的阵列基板的制作方法,其特征在于,所述阵列基板上具有被保护层覆盖的公共信号线;
所述制作方法还包括:
在形成电荷传递层之前,在所述保护层上形成位于所述公共信号线上方的第二过孔;
所述在保护层上形成一与静电释放单元电连接的电荷传递层的步骤中,使所述电荷传递层通过所述第二过孔与作为所述静电释放单元的所述公共信号线电连接。
12.根据权利要求8-10任一项所述的阵列基板的制作方法,其特征在于,包括:
通过一次构图工艺形成所述电荷传递层和所述阵列基板的像素电极。
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