[发明专利]一种深度图上采样边缘增强方法有效
申请号: | 201310688388.4 | 申请日: | 2013-12-16 |
公开(公告)号: | CN103700071A | 公开(公告)日: | 2014-04-02 |
发明(设计)人: | 喻莉;李旭;杨铀;钟刚;刘琼 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | G06T5/00 | 分类号: | G06T5/00 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 朱仁玲 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 深度 采样 边缘 增强 方法 | ||
1.一种基于局部像素统计特性的深度图上采样边缘增强方法,包括以下步骤:
(1)对低分辨率的深度图D进行上采样得到高分辨的深度图H;
(2)对低分辨率的深度图D和高分辨率的深度图H分别进行像素统计,统计出对应于每个像素值的像素点个数,并用直方图进行表示;
(3)将得到的低分辨率统计直方图Dh与高分辨率统计直方图Hh进行对比分析,判断出新增的像素值P(i,j);
(4)利用统计出的低分辨率直方图统计结果对这些新增像素值P(i,j)进行校正:
(4-1)对低分辨率深度图进行边缘提取,并根据低分辨率直方图统计的结果分别求出边缘两侧一定区域内出现频率最高的像素值Plmax、Prmax,其中Plmax是边缘左侧出现频率最高的像素值,Prmax是边缘右侧出现频率最高的像素值;
(4-2)将提取的低分辨率的边缘图像进行上采样,得到高分辨的精细边缘,并定位边缘的两侧;
(4-3)检测高分辨率深度图边缘地带的新增像素值所在的位置Ploc(i,j),按下述公式进行校正,直到边缘地带的新增像素值全部处理完为止:
其中,Ω1为边缘的左侧区域,Ω2为边缘的右侧区域。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述上采样方法优选采用双线性插值法。
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