[发明专利]一种定位缺陷亚像素位置的方法有效
| 申请号: | 201310682600.6 | 申请日: | 2013-12-12 |
| 公开(公告)号: | CN103698912B | 公开(公告)日: | 2017-02-15 |
| 发明(设计)人: | 张力舟;尹镇镐;孟祥明;张磊;张畅;郭建强 | 申请(专利权)人: | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号: | G02F1/13 | 分类号: | G02F1/13;G02F1/1362;H01L21/68 |
| 代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人: | 柴亮,张天舒 |
| 地址: | 230012 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 定位 缺陷 像素 位置 方法 | ||
技术领域
本发明属于显示装置制造技术领域,具体涉及一种定位缺陷亚像素位置的方法。
背景技术
在薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,简称TFT-LCD)生产过程中,对于彩膜基板而言,在玻璃基板上做完BM(Black Matrix,黑矩阵)之后,会利用图形修正机对玻璃基板上的有缺陷(如光刻胶残留或者存在其他异物)的亚像素进行修复。通过使用不同波长(532nm和266nm等)、不同能量的激光,可以对不同尺寸的缺陷进行激光切割,高能量的激光会使残留的光刻胶和其他异物瞬间挥发,从而弥补了因洗净不良所残留的颗粒引起的产品良率下降,从整体上可以提高产品的良率,减少了因原材返工所导致的损失。
现有技术中图形修正机确定缺陷像素的位置是通过下述方法进行的。当全部亚像素形状均相同时,根据AOI(全数检查机)提供的坐标信息,通过将每个亚像素与其他的亚像素进行图像对比,确定缺陷点所在的亚像素(认为与其他亚像素图像均不同的亚像素有缺陷)。但对于全部亚像素分为两种及以上形状(比较常见的情况是6种)的情况,只能以多个形状不同的亚像素为一个像素周期(即彩膜基板包括多个相同的像素周期),并通过比较各像素周期的图像确定缺陷亚像素的位置。
发明人发现现有技术中至少存在如下问题:当亚像素形状为两种或以上时,只能按照一个像素周期对缺陷亚像素进行定位寻找,即只能确定哪个像素周期中有缺陷,而不能确定缺陷具体在哪个亚像素中。因此进一步地,像素周期里面所有的亚像素(包括没有缺陷的亚像素)都必须按照完全相同的方式进行修复,对激光修复缺陷的时间会有较大的影响。尤其是当构成像素周期的亚像素较多时(比如3个以上),会严重影响到修复的效率,不利于产品良率的改善,并且会造成激光能量的浪费,增加了激光光源的使用成本。
发明内容
本发明所要解决的技术问题包括,针对现有的图形修正机对亚像素的形状较多的基板进行缺陷修复时,由于不能准确定位缺陷亚像素的位置而导致修复效率较低的问题,提供一种定位缺陷亚像素位置的方法和一种定位缺陷亚像素位置的装置,其能够对缺陷亚像素的位置进行准确定位,从而提高图形修正机修复缺陷的效率。
解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种定位缺陷亚像素位置的方法,其中,基板包括复数个亚像素,复数个亚像素划分为多个像素周期,每个像素周期包括至少两个亚像素,所述定位缺陷亚像素位置的方法包括如下步骤:
对各像素周期进行对比,确定缺陷亚像素所在的像素周期的位置;
对含有缺陷亚像素的像素周期内的各亚像素与其他亚像素进行对比,确定缺陷亚像素的位置。
本发明的定位缺陷亚像素位置的方法,通过对像素周期进行对比,从而确定缺陷亚像素所在的像素周期的位置,然后再对含有缺陷亚像素的像素周期内的各亚像素与其他亚像素进行对比,进而确定缺陷亚像素的位置。因此,本发明能够对缺陷亚像素的位置进行准确定位,缩短了定位缺陷亚像素位置的时间,提高了产品生产效率。
优选的是,所述每个像素周期中的各亚像素的形状均相同。
进一步优选的是,所述对含有缺陷亚像素的像素周期内的各亚像素与其他亚像素进行对比包括:
对含有缺陷亚像素的像素周期内的各亚像素与该像素周期内的其他亚像素进行对比。
优选的是,所述每个像素周期中的各亚像素的形状均不相同。
进一步优选的是,所述对含有缺陷亚像素的像素周期内的各亚像素与其他亚像素进行对比包括:
对含有缺陷亚像素的像素周期内的各亚像素与其他像素周期内的相对位置的亚像素进行对比。
进一步优选的是,所述亚像素的形状包括亚像素的大小和/或亚像素的线幅。
优选的是,所述对各像素周期进行对比是根据像素周期的图像信息进行对比。
优选的是,所述对含有缺陷亚像素的像素周期内的各亚像素与其他亚像素进行对比是根据亚像素的图像信息进行对比。
进一步优选的是,所述图像信息是灰度值。
优选的是,所述玻璃基板为彩膜基板或阵列基板。
解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种定位缺陷亚像素位置的装置,包括:
比较单元,用于对像素周期进行比较,确定缺陷亚像素所在的像素周期的位置,并对含有缺陷亚像素所在的像素周期内的各亚像素与其他亚像素进行对比,确定缺陷亚像素的位置。
本发明的定位缺陷亚像素位置的装置包括比较单元,其能够对缺陷亚像素的位置进行准确定位,因此,节省了定位缺陷亚像素位置的时间,提高了生产效率。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司,未经合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310682600.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:恒水位光学催化生物膜污水处理装置
- 下一篇:一种便于清洗的水封电镀槽





