[发明专利]一种多孔二氧化钛薄膜的制备方法

权利要求书

1.一种多孔二氧化钛膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

（1）以空心玻璃微珠作为基体，以Cu-Zn或Cu-Mn合金作为靶材，磁控溅射设备沉积Cu-Zn或Cu-Mn合金薄膜；

（2）采用酸性或碱性溶液进行脱合金化处理，后进行去离子水清洗至中性，再真空干燥；

（3）干燥后包裹多孔铜的玻璃微珠，磁控溅射设备表面沉积二氧化钛，制备出多孔二氧化钛。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述的空心玻璃微珠是漂选的浮珠，粒径范围40-60目。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述的Cu-Zn或Cu-Mn合金的铜含量范围为20~50%。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤（1）中磁控溅射的具体工艺为：在真空度达到1.0×10^-3 ~3.0×10^-3 时，通入高纯氮气或高纯氩气，调整真空室内气压在0.8~1.4Pa；直流溅射功率在80~160W；基底温度为室温，溅射时间为10~60min。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤（2）中，酸性溶液为盐酸或硫酸中的一种，碱性溶液为氢氧化钠或氢氧化钾中的一种。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述酸性溶液的浓度为3~20wt%0，所述碱性溶液的浓度为0.5ml/L~-2mol/L。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，0.5ml/L~-2mol/L碱性溶液反应的时间为10min~60min；与3~20wt%酸性溶液反应的时间为30~120min。

8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤（3）中所述的二氧化钛为纯度99.9%的二氧化钛，其致密、表面光滑、内部无缩孔。

9.根据权利要求1所述的制备方法， 步骤（3）中所述磁控溅射的具体工艺为，在真空度达到1.0×10^-3 ~3.0×10^-3 时，通入高纯氮气或高纯氩气，调整真空室内气压在0.5~1.2Pa；直流溅射功率在80~140W；基底温度为室温到350℃；溅射时间为30~120min。