[发明专利]一种分子铁电薄膜及其溶液浸泡生长方法有效

专利信息
申请号: 201310671979.0 申请日: 2013-12-10
公开(公告)号: CN103740327A 公开(公告)日: 2014-04-23
发明(设计)人: 袁国亮;马赫;常磊;高文秀 申请(专利权)人: 南京理工大学
主分类号: C09K3/00 分类号: C09K3/00
代理公司: 南京理工大学专利中心 32203 代理人: 朱显国
地址: 210094 *** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 分子 薄膜 及其 溶液 浸泡 生长 方法
【权利要求书】:

1.一种分子铁电薄膜,其特征在于所述的铁电薄膜具有铁电性,所述薄膜为晶体薄膜,具备自发极化,且所述薄膜任意区域的极化方向可被外电场反转。

2.根据权利要求1所述的分子铁电薄膜,其特征在于所述铁电薄膜的组成物质为有机-无机化合物分子铁电体,即有机基团与金属阳离子或无机离子或无机分子基团的化合物,其中有机基团为具备非中心对称性或手性或内部同时带有正电荷与负电荷的基团。

3.根据权利要求2所述的分子铁电薄膜,其特征在于所述的有机-无机化合物分子铁电体包括咪唑高氯酸盐、内胺化合物、酒石酸化合物、硫酸三甘氨酸、二异丙胺化合物、甲酸化合物或铼酸1,4-二氮杂二环[2.2.2]辛烷。

4.根据权利要求3所述的分子铁电薄膜,其特征在于所述的咪唑高氯酸盐为C3N2H5ClO4;内胺化合物为(CH3)3N+CH2COO-·X,其中X=H3PO4、H3AsO4或CaCl2·2H2O;所述的酒石酸化合物为MNaC4H4O6·4H2O,其中M=K或NH4;所述的二异丙胺化合物为(CH3CH3CH)2NH4X,其中X=Cl、Br或I;所述的甲酸化合物为(CH3)2NH2M(HCOO)3,其中M=Mn、Fe、Co、Ni或Zn。

5.一种分子铁电薄膜的溶液浸泡生长方法,其特征在于包括以下步骤:

步骤1、将有机-无机化合物分子铁电体配成溶液;

步骤2、将步骤1制备的分子铁电体溶液与清洁的基片相接触,使该分子铁电体溶液均匀地在基片上铺展、蒸发,以获得均匀的分子铁电体薄膜;

步骤3、将步骤2制备的分子铁电体薄膜进行退火;

步骤4、将步骤3退火后的分子铁电体薄膜浸入分子铁电体溶液中,并控制蒸发速率或温度下降速率,使溶液中的分子铁电体缓慢析出;

步骤5、将步骤4中的分子铁电体薄膜从溶液中取出,迅速甩干其上残留的溶液,退火一段时间。

6.根据权利要求5所述的分子铁电薄膜的溶液浸泡生长方法,其特征在于步骤1中所述的溶液的溶剂为去离子水、乙醇、丙酮或苯;所述的溶液的质量浓度不小于0.1g/L;所述的有机-无机化合物分子铁电体包括咪唑高氯酸盐、内胺化合物、酒石酸化合物、硫酸三甘氨酸、二异丙胺化合物、甲酸化合物或铼酸1,4-二氮杂二环[2.2.2]辛烷。

7.根据权利要求6所述的分子铁电薄膜的溶液浸泡生长方法,其特征在于所述的咪唑高氯酸盐为C3N2H5ClO4;内胺化合物为(CH3)3N+CH2COO-·X,其中X=H3PO4、H3AsO4或CaCl2·2H2O;所述的酒石酸化合物为MNaC4H4O6·4H2O,其中M=K或NH4;所述的二异丙胺化合物为(CH3CH3CH)2NH4X,其中X=Cl、Br或I;所述的甲酸化合物为(CH3)2NH2M(HCOO)3,其中M=Mn、Fe、Co、Ni或Zn。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京理工大学,未经南京理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310671979.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top