[发明专利]一种IGZO靶材的制备方法有效
申请号: | 201310669559.9 | 申请日: | 2013-12-11 |
公开(公告)号: | CN103819178A | 公开(公告)日: | 2014-05-28 |
发明(设计)人: | 何建进;黄誓成;陆映东 | 申请(专利权)人: | 广西晶联光电材料有限责任公司 |
主分类号: | C04B35/01 | 分类号: | C04B35/01;C04B35/453;C04B35/622 |
代理公司: | 柳州市荣久专利商标事务所(普通合伙) 45113 | 代理人: | 韦微 |
地址: | 545036 广西壮族*** | 国省代码: | 广西;45 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 igzo 制备 方法 | ||
1.一种IGZO靶材的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:
(1)将Ga2O3纳米粉体、ZnO纳米粉体与In2O3纳米粉体按原子比In:Ga:Zn=1: 1~5:1~5均匀混合得到IGZO粉体,然后添加IGZO粉体质量1%-5%的粘结剂PVA进行造粒;
(2)将IGZO粉体装入模具中在40~80MPa下压制成型,将第一次成型的素坯,再用200-300MPa进行二次成型,然后以4-8MPa/ min进行卸压,至常压后取出成型好的素坯,
(3)将素坯放在烧结炉中进行烧结,烧结条件是指以不高于1℃/ min的升温速率升温,至1300~1550℃保温烧结4~10小时,之后按降温速率0.5~1℃/ min降温至950~1050℃,之后自然降温;得到IGZO靶材。
2.根据权利要求1所述的一种IGZO靶材的制备方法,其特征在于:所述的第一次成型是在液压机中压制成型,第二次成型是在冷等静压机中压制成型。
3.如权利要求1或2所述的一种IGZO靶材的制备方法,其特征在于:所述的烧结是在常压烧结炉的氧气氛围中进行烧结。
4.如权利要求1或2所述的一种IGZO靶材的制备方法,其特征在于:所述的烧结的升温速率为0.3-1℃/ min。
5.如权利要求1或2所述的一种IGZO靶材的制备方法,其特征在于:所述的Ga2O3纳米粉体、ZnO纳米粉体和In2O3纳米粉体的纯度为99.99%以上。
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