[发明专利]用于显示器的玻璃基板及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于显示器的玻璃基板及其制造方法，其尤其适用于通过气相沉积设备来进行处理的玻璃基板。

背景技术

现代科学和技术需要使用大量功能各异的新材料，这些功能材料必须是高纯的，或者是在高纯材料中有意地掺入某种杂质而形成的掺杂材料。但是，许多传统的制备方法，如高温熔炼、水溶液中沉淀和结晶等往往难以满足这些要求，也难以保证得到高纯度的产品。

化学气相沉积(Chemical vapor deposition，简称CVD)是反应物质在气态条件下发生化学反应，生成固态物质沉积在加热的固态基体表面，进而制得固体材料的工艺技术。它本质上属于原子范畴的气态传质过程。

化学气相沉积是近几十年发展起来的制备材料的新技术。化学气相沉积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态薄膜材料。这些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物，也可以是III-V、II-IV、IV-VI族中的二元或多元的元素间化合物，而且它们的物理功能可以通过气相掺杂的淀积过程精确控制。

与之相对，物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)技术表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体(或等离子体)过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。物理气相沉积的主要方法包括真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜以及分子束外延等。目前，物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜，还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。

气相沉积设备通常包括反应室、供气系统和加热系统。反应室包括用于支撑被处理基板的支架，例如顶杆等，而加热系统例如包括加热板，加热板上布置有加热电阻丝。

而采用气相沉积工艺的显示面板因工艺均匀度的关系，常会产生色不均(mura)现象，这可能是由于制程中机台硬件上无法克服的机构设计所导致，亦可能是由于先天材料与工艺技术的搭配限制所造成，使得在玻璃大板的特定位置处具有固定形状及固定大小范围内的色不均现象。

申请人对此进行了相关探究，发现了产生此技术问题的根源。

图1示意性显示了现有技术中的用于处理玻璃基板的气相沉积设备中的加热板10。参照图1，用于处理玻璃基板的气相沉积设备中的加热板10上通常设置有加热电阻丝3，而顶杆2也恰好对应着玻璃基板的位于显示区域中的位置。

图2显示了对显示器的玻璃基板1进行气相沉积工艺时的示意图。相应地，在对玻璃基板1进行气相沉积工艺的过程中，顶杆2和电阻丝3的存在会造成玻璃基板1受热不均匀，通常情况下为电阻丝3所对应的位置处温度较高，而顶杆2所对应的位置处温度较低，从而影响玻璃基板的工艺质量和光学性质。通常情况下，通过气相沉积工艺所处理的玻璃基板，其在与顶杆2或电阻丝3所对应的位置处透光度较低，导致最终所得到的显示面板具有色差(mura)现象。这大大降低了显示面板的性能和价值。

发明内容

针对上述现有技术中的问题，即在气相沉积工艺中，在气相沉积设备中由于所处理的玻璃基板受热不均而造成透光度差异，最终导致显示面板具有色差(mura)现象这一缺陷，本发明提出了一种用于显示器的玻璃基板及其制造方法，其可有效解决色差缺陷。

本发明提出了一种用于显示器的玻璃基板，在实施方案1中，所述玻璃基板通过气相沉积设备进行处理，其中，所述玻璃基板包括光学补偿膜，所述光学补偿膜在补偿区域内相比其它区域具有较高的透光度，所述补偿区域的形状和位置设置成与所述玻璃基板上的由气相沉积设备所致的受热不均区域相对应。以此方式，光学补偿膜能够通过改变光的传播路线来改变观察者所接收到的光线强度分布，使得观察者所看到的画面是光线强度均匀分布的，从而缓解了显示面板的色不均现象。色不均现象是由于玻璃基板在气相沉积设备中受热不均所导致，其或是温度高于标准温度，或是温度低于标准温度，导致该位置处的透光度有所下降。而光学补偿膜上的补偿区域正是位于该位置处，精准地弥补了玻璃基板的缺陷。

在根据实施方案1所改进的实施方案2中，所述受热不均区域包括所述玻璃基板的与所述气相沉积设备的顶杆和/或加热板的加热电阻丝相对应的位置处。根据申请人的研究，这两处位置的温度与标准温度相差尤其大。通常顶杆所对应的位置处的温度低于标准温度，而加热电阻丝所对应的位置处的温度高于标准温度。因此根据本发明的玻璃基板的光学补偿膜的补偿区域优选包含这两个位置处。