[发明专利]一种单晶硅切削液及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201310654129.X 申请日: 2013-12-05
公开(公告)号: CN103710122A 公开(公告)日: 2014-04-09
发明(设计)人: 章功国;王泾文;段宗银;李纯金;陈超;王淑妍;张少伍;王晓芬;谢勇 申请(专利权)人: 马鞍山市恒毅机械制造有限公司
主分类号: C10M173/00 分类号: C10M173/00;C10N40/22;C10N30/04;C10N30/06;C10N30/12;C10N30/16
代理公司: 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 代理人: 余成俊
地址: 243181 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 单晶硅 切削 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及切削液技术领域,尤其涉及一种单晶硅切削液及其制备方法。

背景技术

切削液应具备良好的冷却性能、润滑性能、防锈性能、除油清洗功能、防腐功能、易稀释特点。目前切削液可分为两类,油溶性切削液和水溶性切削液。一般油溶性切削液润滑性能好,但冷却性能差,且含有大量有机物,污染环境。一些水溶性切削液虽然冷却性能好,又存在润滑性和防锈效果差的问题,因此研发兼具润滑性、冷却性、防锈性、易清洗、无毒、无味、对人体无侵蚀、对设备不腐蚀、对环境不污染的切削液就显得很重要。

发明内容

本发明的目的在于提供一种单晶硅切削液及其制备方法,该切削液具有携载能力强、高悬浮、润滑性好的特点。

本发明的技术方案如下:

一种单晶硅切削液,其特征在于由下列重量份的原料制成:煤油20-24、二乙二醇10-12、甘油5-8、三乙醇胺1-2、硫酸钴1-2、乌洛托品1-2、OP-101-2、氯化石蜡2-3、草酸2-4、四氟化锆2-3、月桂酸钠1-2、助剂6-8、水200;所述的助剂由下列重量份的原料制成:聚氧乙烯山梨糖醇酐单油酸酯2-3、氮化铝粉0.1-0.2、硼酸2-3、吗啉1-2、硅酸钠1-2、硅烷偶联剂KH-5601-2、过硫酸钾1-2、桃胶3-4、水20-24;制备方法是将过硫酸钾溶于水后,再加入其它剩余物料,搅拌10-15分钟,加热至70-80℃,搅拌反应1-2小时,即得。

所述单晶硅切削液的制备方法,其特征在于包括以下步骤:将水、OP-10、月桂酸钠混合,加热至40-50℃;在3000-4000转/分搅拌下,加入煤油、二乙二醇、甘油、硫酸钴、氯化石蜡、助剂,继续加热到70-80℃,搅拌10-15分钟;加入其他剩余成分,继续搅拌15-25分钟,即得。

本发明的有益效果

本发明切削液通过使用甘油、氯化石蜡以及溶剂和表面活性剂,使得切削液具有优异的润滑性、极压抗磨性、清洗分散性,提高了切割成品率;而且该切削液对硅片腐蚀性小,能在硅片表面形成保护膜,提高了硅片的品质,同时切削液无毒、不易燃、抗菌防腐性好、化学性能稳定,使用时间长,适用于单晶硅等半导体材料的多线切割,具有携载能力强、高悬浮等特点。

具体实施方式

一种单晶硅切削液,由下列重量份(公斤)的原料制成:煤油22、二乙二醇11、甘油6、三乙醇胺1.5、硫酸钴1.5、乌洛托品1.5、OP-101.5、氯化石蜡2.5、草酸3、四氟化锆2.5、月桂酸钠1.5、助剂7、水200;所述的助剂由下列重量份(公斤)的原料制成:聚氧乙烯山梨糖醇酐单油酸酯2、氮化铝粉0.1、硼酸2、吗啉1、硅酸钠2、硅烷偶联剂KH-5601、过硫酸钾1、桃胶3、水20;制备方法是将过硫酸钾溶于水后,再加入其它剩余物料,搅拌10-15分钟,加热至70-80℃,搅拌反应1-2小时,即得。

所述单晶硅切削液的制备方法,包括以下步骤:将水、OP-10、月桂酸钠混合,加热至45℃;在3500转/分搅拌下,加入煤油、二乙二醇、甘油、硫酸钴、氯化石蜡、助剂,继续加热到75℃,搅拌13分钟;加入其他剩余成分,继续搅拌20分钟,即得。

将该实施例得到的单晶硅切削液与商品SiC磨料混合(切削液:SiC=1:1),进行单晶硅8英寸的切割,当批次共处理硅片4000片,切割成品率97.5%。

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