[发明专利]一种紫外响应稀土光转换膜及其用途

权利要求书

1.一种紫外响应稀土光转换膜，其特征在于，所述稀土光转换膜是由稀土配合物或稀土配合物与高透光率的成膜材料组成的具有改变光波波长功能的光转换膜，该膜能将紫外光区的光转换到成像器件敏感的波段。

2.根据权利要求1所述的紫外响应稀土光转换膜，其特征在于，制备步骤如下：

1）将稀土元素与配体混合制备得到稀土配合物；

2）将稀土配合物和高透光率成膜材料混合均匀后，通过涂膜工艺在器件表面涂敷制得稀土光转换膜；

所述稀土配合物在高透光率成膜材料中的浓度为0.1～100%。

3.根据权利要求2所述的紫外响应稀土光转换膜，其特征在于，所述稀土元素包括铕或/和铽，或由铕或/和铽与其他稀土元素共同组成，且铕或铽的含量占配合物中稀土摩尔百分含量的60%以上。

4.根据权利要求2所述的紫外响应稀土光转换膜，其特征在于，所述配体为芳香羧酸类、含磺酸基的芳烃类、含羟基的芳烃类和杂环类有机物中的一种或几种。

5.根据权利要求2～4任一项所述的紫外响应稀土光转换膜，其特征在于，所述稀土配合物的制备步骤如下：

1）将稀土元素与配体混合；

2）往步骤1）所得的混合物中加入溶剂，混合均匀，所述溶剂为亚砜类、酰胺类、醇类有机物、水或重水中的至少一种；

3）搅拌下，调节步骤2）所得混合溶液的pH=5～8；

4）加热蒸干步骤3）所得溶液中的溶剂，即得稀土配合物。

6.根据权利要求2所述的紫外响应稀土光转换膜，其特征在于，所述高透光率成膜材料为聚乙烯醇、聚乙二醇、聚丙烯酰胺、环氧树脂类、有机硅类、聚丙烯酸酯类、聚氨酯类、乙烯－乙酸乙烯酯共聚物和聚碳酸酯等聚合物中的一种或几种。

7.根据权利要求1～6任一项所述的紫外响应稀土光转换膜，其特征在于，所述紫外响应稀土光转换膜两侧含有一层或多层高透光性的保护层或封装层，该保护层或封装层含有有机和/或无机材料，有机材料是聚乙烯醇、聚乙二醇、聚丙烯酰胺、环氧树脂类、有机硅类、聚丙烯酸酯类、聚氨酯类、乙烯－乙酸乙烯酯共聚物和聚碳酸酯等聚合物中的一种或几种，无机材料是玻璃、石英、硅胶等的一种或几种。

8.根据权利要求7所述的紫外响应稀土光转换膜，其特征在于，在紫外响应稀土光转换膜表面或其保护层或封装层表面可涂覆一层或多层量子点薄膜，所述量子点薄膜为专利申请公告号为CN102683369 A的发明专利中所述的量子点薄膜。

9.权利要求1～8任一项所述的紫外响应稀土光转换膜在紫外指纹成像中的应用。

10.根据权利要求9所述的应用，其特征在于，所述紫外响应稀土光转换膜可直接安装在CCD或CMOS等硅基成像器件的表面或其正前方或直接涂覆在其表面，安装光转换膜后的相机与紫外光源一起组成紫外成像系统，可直接用于紫外指纹成像中。