[发明专利]液晶透镜及应用该透镜的立体显示装置

权利要求书

1.一种液晶透镜，包括多个液晶透镜单元，每个透镜单元包括第一基板、第一电极、第一介电层、第一配向膜、第二基板、第二电极、第二配向膜和液晶材料，所述第一电极设置于第一基板上，第二电极设置于第二基板上，第一介电层设置于第一电极上，第一配向膜设置于第一介电层上，第二配向膜设置于第二电极上，液晶材料封装在第一配向膜和第二配向膜之间，多个透镜单元在x方向上重复周期性重复构成液晶透镜阵列，其特征在于，所述第一介电层包括奇数个在X方向依次设置且沿Y方向延展并平行的条形介电块，所述条形介电块的宽度相同并依次标记为d11，d12，d13，…，d18，d1n，所述条形介电块的导电系数沿d1((n+1)/2)对称分布，d1((n+1)/2)的导电系数最小，d11和d1n的导电系数最大且相等，即透镜单元的导电系数由透镜的边缘到中心逐渐降低。

2.根据权利要求1所述的液晶透镜，其特征在于，所述第一电极和第二电极为没有特殊图案的面电极，均为透明导电材料。

3.根据权利要求1所述的液晶透镜，其特征在于，所述第一介电层和第一配向膜之间设有透明绝缘层。

4.根据权利要求1所述的液晶透镜，其特征在于，所述液晶透镜阵列还包括液晶材料封装的周边封框胶以及用于控制液晶盒厚的间隙子。

5.一种应用权利要求1～4任一项所述液晶透镜的立体显示装置。

6.一种如权利要求1所述的液晶透镜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)在第一基板上溅射形成第一电极；

(2)制备具有最大介电系数的第一介电层；

(3)涂覆光阻或光刻胶；

(4)进行曝光、显影、蚀刻；

(5)去除光阻或剥离光刻胶，保留两端的条形介电块即得到具有最大介电系数的条形介电块；

(6)依次重复步骤(2)～(5)，得到介电系数由边缘向中心逐渐减小的第二介电层。

7.根据权利要求6所述的一种液晶透镜的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中制备第一介电层的方法为等离子增强化学气相沉积法PECVD或旋涂。

8.根据权利要求6所述的一种液晶透镜的制备方法，其特征在于，所述光刻胶为正性光刻胶。

9.根据权利要求6所述的一种液晶透镜的制备方法，其特征在于，所述步骤(4)中采用光罩作为模板进行曝光。