[发明专利]一种多模式成像方法和设备无效
| 申请号： | 201310645252.5 | 申请日： | 2013-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN103604422A | 公开（公告）日： | 2014-02-26 |
| 发明（设计）人： | 冯能云;陈云亮 | 申请（专利权）人： | 深圳市开立科技有限公司 |
| 主分类号： | G01C11/02 | 分类号： | G01C11/02;G01N21/01;A61B10/04;A61B5/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518051 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 模式 成像 方法 设备 | ||
1.一种多模式成像方法，其特征在于，包括：
将多模式掩膜板贴合在黑白数字相机的图像传感器阵列表面；
曝光，获取原始成像数据；
对原始成像数据进行多模式图像处理。
2.如权利要求1所述的多模式成像方法，其特征在于，所述多模式掩膜板包括多个成像单元，每个所述成像单元包括多个掩膜单元，一个成像单元内的不同掩膜单元进行不同方式的镀膜。
3.如权利要求2所述的多模式成像方法，其特征在于，所述多模式掩膜板的尺寸与所述图像传感器阵列尺寸一致。
4.如权利要求2所述的多模式成像方法，其特征在于，所述掩膜单元的尺寸和所述图像传感器阵列中的像元尺寸一致。
5.如权利要求2所述的多模式成像方法，其特征在于，所述一个成像单元内的不同掩膜单元进行不同方式的镀膜具体为：
当应用在内窥镜自发荧光成像领域，一个成像单元内的一些掩膜单元被镀上与自发荧光波长对应的滤膜，另一些掩膜单元进行标准RGB三色镀膜；
或者，当应用在偏振光成像领域，一个成像单元内的不同掩膜单元被镀上不同偏振态的滤膜；
或者，当应用在多波长成像领域，一个成像单元内的不同掩膜单元被镀上与不同波长对应的滤膜。
6.如权利要求1所述的多模式成像方法，其特征在于，所述对原始成像数据进行多模式图像处理包括：分别提取原始成像数据中镀膜特性一致的像元，获取各模式的图像信息。
7.一种多模式成像设备，包括黑白数字相机，所述黑白数字相机具有图像传感器阵列，其特征在于，所述图像传感器阵列表面贴合有多模式掩膜板。
8.如权利要求7所述的多模式成像设备，其特征在于，所述多模式掩膜板包括多个成像单元，每个所述成像单元包括多个掩膜单元，一个成像单元内的不同掩膜单元具有不同方式的镀膜。
9.如权利要求8所述的多模式成像设备，其特征在于，所述多模式掩膜板的尺寸与所述图像传感器阵列尺寸一致。
10.如权利要求8所述的多模式成像设备，其特征在于，所述掩膜单元的尺寸和所述图像传感器阵列中的像元尺寸一致。
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