[发明专利]用于过程装置校准的方法和设备

权利要求书

1.一种用于过程设备校准的方法，所述方法包括：

确定过程控制装置的第一位置是否处于第一末端位置；

对所述第一位置处于所述第一末端位置作出响应，基于所述第一末端位置和配置信息计算所述过程控制装置的第二末端位置；

基于所述第一末端位置和第二末端位置计算所述过程控制装置的局部冲程区域；

确定所述过程控制装置的当前位置何时处于所述局部冲程区域内；以及

当所述当前位置处于所述局部冲程区域内时，基于指示所述当前位置与控制信号的比较的值来计算输出偏差。

2.如权利要求1所述的方法，进一步包括：

当所述第一位置未处于所述第一末端位置时，基于所述配置信息计算目标输出压力；

确定反馈压力是否等于所述目标输出压力，其中所述反馈压力对应于从所述过程控制装置输出的输出压力；以及

当所述反馈压力不等于所述目标输出压力时，改变所述输出压力，以使所述反馈压力与所述目标输出压力相匹配。

3.如权利要求2所述的方法，进一步包括：

在调整所述输出压力时监视所述当前位置的变化；

响应所述当前位置的所述变化，当所述控制信号处于利用所述配置信息确定的截止区时，修改控制信号变化的速度；以及

当所述控制信号处于截止区时，基于所述控制信号变化的速度改变所述当前位置。

4.如权利要求3所述的方法，其中监视所述当前位置的所述变化进一步包括基于第一反馈压力和第二反馈压力计算平均信号，所述第一反馈压力在所述输出压力增加时收集，所述第二反馈压力在所述输出压力减小时收集。

5.如权利要求4所述的方法，进一步包括基于所述第一反馈压力和第二反馈压力估计所述过程控制装置的摩擦力。

6.如权利要求4所述的方法，其中增加所述输出压力进一步包括：

渐进地增加所述输出压力；

对渐进地增加所述输出压力作出响应，确定所述当前位置是否改变；以及

当所述当前位置改变时，确定运动的方向。

7.如权利要求4所述的方法，其中减小所述输出压力进一步包括：

渐进地减小所述输出压力；

对渐进地减小所述输出压力作出响应，确定所述当前位置是否改变；以及

当所述当前位置改变时，确定运动的方向。

8.如权利要求3所述的方法，进一步包括响应所述当前位置没有变化而提供警报。

9.如权利要求1所述的方法，进一步包括：

计算所述当前位置与所述控制信号之间的多个差异，直到所述当前位置与所述控制信号相匹配；以及

对所述多个差异求和以形成所述值。

10.如权利要求9所述的方法，其中所述值指示使所述当前位置与所述控制信号相关联的调整。

11.如权利要求1所述的方法，其中所述配置信息由射频识别装置收集。

12.如权利要求1所述的方法，其中计算所述输出偏差进一步包括将所述值增加到在所述输出偏差之前计算的第二输出偏差。

13.一种用于过程设备校准的设备，所述设备包括：

存储器；

处理器，所述处理器连接到包括指令的存储器，以使所述设备：

确定过程控制装置的第一位置是否处于所述过程控制装置的局部冲程位置；

对所述第一位置处于所述局部冲程位置作出响应，基于配置信息计算目标输出压力；

确定所述目标输出压力是否等于反馈压力，所述反馈压力对应于从所述过程控制装置输出的输出压力；

计算所述目标输出压力与所述反馈压力之间的差异；以及

通过所述差异改变所述输出压力。