[发明专利]混凝土砌块生产中的清扫吹尘装置有效

专利信息
申请号: 201310629984.5 申请日: 2013-11-28
公开(公告)号: CN103802206A 公开(公告)日: 2014-05-21
发明(设计)人: 吴亚军;李稳;徐顺武 申请(专利权)人: 芜湖科达新铭丰机电有限公司
主分类号: B28B17/04 分类号: B28B17/04
代理公司: 芜湖安汇知识产权代理有限公司 34107 代理人: 张小虹
地址: 241000 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 混凝土 砌块 生产 中的 清扫 装置
【说明书】:

技术领域

发明属于蒸压加气混凝土砌块生产线领域,涉及其辅助机械部分。具体地说,本发明涉及一种混凝土砌块生产中的清扫吹尘装置。

背景技术

加气混凝土砌块坯体在切割完成后,进入去底皮环节前,会有切割时产生的废料残留在侧板两边及坯体的切割缝处。

目前,一般砌块生产厂均对此不做处理。但是,这些废料容易在去底皮之前留在翻转台部分,不易清理,造成坯体的污染,影响施工现场的环境卫生。

因此,急需一种能对切割完成后的坯体和侧板进行清扫、除灰尘的装置,实现清洁生产并提高产品质量。

发明内容

本发明提供一种混凝土砌块生产中的清扫吹尘装置,其目的是实现侧板及坯体的清洁。

为了实现上述目的,本发明采取的技术方案为:

本发明的混凝土砌块生产中的清扫吹尘装置,包括侧板清扫组件、坯体清扫组件;所述的侧板清扫组件通过支架二安装固定,并设有刮刀和吹灰组件;所述的坯体清扫组件通过支架一安装固定,并设有喷嘴和条刷。

所述的侧板清扫组件、坯体清扫组件均为两件,按坯体运动方向的中心对称分布。

所述的刮刀包括一次刮刀、二次刮刀。

所述的一次刮刀、二次刮刀倾斜安装,其倾斜方向使废料易于排出。

所述的吹灰组件设有吹灰腔,所述的吹灰腔朝向侧板的一面为开口;在所述吹灰腔内设有吹灰喷嘴。

本发明采用上述技术方案,对切割完的坯体与侧板进行彻底的清扫、吹风,清除残留废料,提高坯体的洁净程度与厂房的卫生环境。

附图说明

下面对本说明书各幅附图所表达的内容及图中的标记作简要说明:

图1为本发明的总体结构示意图;

图2为本发明中的侧板清扫组件结构示意图;

图3为图2中的吹灰组件结构示意图;

图4为本发明中的坯体清扫组件结构示意图。

图中标记为:

1、侧板清扫组件,2、坯体清扫组件,3、喷嘴,4、条刷,5、支架一,6、一次刮刀,7、支架二,8、二次刮刀,9、吹灰组件,10、调节螺杆,11、吹灰腔,12、吹灰腔刮刀,13、吹灰喷嘴。

具体实施方式

下面对照附图,通过对实施例的描述,对本发明的具体实施方式作进一步详细的说明,以帮助本领域的技术人员对本发明的发明构思、技术方案有更完整、准确和深入的理解。

如图1至图4所表达的本发明的结构,为一种混凝土砌块生产中的清扫吹尘装置。

为了解决现有技术存在的问题并克服其缺陷,实现侧板及坯体的清洁的发明目的,本发明采取的技术方案为:

如图1至图4所示,本发明的混凝土砌块生产中的清扫吹尘装置,包括侧板清扫组件1、坯体清扫组件2;所述的侧板清扫组件1通过支架二7安装固定,并设有刮刀和吹灰组件9;所述的坯体清扫组件2通过支架一5安装固定,并设有喷嘴3和条刷4。

在切割小车完全经过该装置时,可对对切割完的坯体与侧板进行完全、彻底的清扫和吹风。上述技术方案实现了清除残留废料的目的,提高坯体的洁净程度与厂房的卫生环境。

所述的侧板清扫组件1、坯体清扫组件2均为两件,按坯体运动方向的中心对称分布。

所述的刮刀包括一次刮刀6、二次刮刀8。

所述的一次刮刀6、二次刮刀8倾斜安装,其倾斜方向使废料易于排出。

如图2所示,工作时,侧板清扫组件1对侧板进行清扫,侧板清扫组件1的刮刀顺着小车的前进方向进行压刮式清理,且刮刀呈一定角度安置,方便排料。调整一次刮刀6、二次刮刀8,可以完成对侧板的初步清理和进一步清理。

经过2次清理后,再由吹灰组件9(见图3)对清理过的侧板进行一次强力清吹。

如图3所示,所述的吹灰组件9设有吹灰腔11,所述的吹灰腔11朝向侧板的一面为开口;在所述吹灰腔11内设有吹灰喷嘴13。在吹灰腔11上还设有吹灰腔刮刀12,起到对坯体的灰尘刮扫的作用。

吹灰组件9贴近坯体与侧板,形成一个在底部局部开口的密闭腔,吹灰喷嘴13工作时,可进一步将侧板轻吹干净,废料沿密闭腔的开口排出。

如图4所示,坯体清扫组件2工作时,先由条刷4对坯体进行一次轻刷,然后由喷嘴3对坯体两端面进行一次轻吹,再由条刷4进行一次轻刷,坯体两端面可清扫干净,清扫掉在侧板上的废料可由一次刮刀6、二次刮刀8完成清理。

上面结合附图对本发明进行了示例性描述,显然本发明具体实现并不受上述方式的限制,只要采用了本发明的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进,或未经改进将本发明的构思和技术方案直接应用于其它场合的,均在本发明的保护范围之内。

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