[发明专利]纽扣的抛光方法

权利要求书

1.一种纽扣的抛光方法，其特征在于，包括如下步骤：

（1）在双联涡流抛光机内放入高频瓷粒、待抛光纽扣、硅砂粉、化学抛光剂，加水浸没上述物料；所述待抛光纽扣与高频瓷粒的质量比为1:2-1:7，硅砂粉的添加量为固体物料总质量的1%-5%，化学抛光剂的添加量为固体物料总质量的0.5%-1.5%；所述高频瓷粒的尺寸为2.5*8.0mm或3*3mm；

（2）设定第一抛光时间，双联涡流抛光机的转速为100-180转/分钟；

（3）根据第一次抛光效果，设定第二次抛光时间，至纽扣光泽度满足要求；

（4）清洗纽扣。

2.根据权利要求1所述的纽扣的抛光方法，其特征在于，步骤（1）所述化学抛光剂为蜡乳液、有机硅化合物、硬酯酸钠、十二烷基苯磺酸钠或有机硅改性聚醚类表面活性剂中的一种或两种以上的混合物。

3.根据权利要求2所述的纽扣的抛光方法，其特征在于，所述化学抛光剂为主要由以下重量百分比的原料组成：蜡乳液75-84wt%，有机硅化合物4-6wt%和硬脂酸钠12-19wt%。

4.根据权利要求1所述的纽扣的抛光方法，其特征在于，步骤（1）所述硅砂粉的粒径为150-400目。

5.根据权利要求1所述的纽扣的抛光方法，其特征在于，步骤（2）所述第一抛光时间为2-6h，步骤（3）所述第二次抛光时间为0.5-1.5h。

6.根据权利要求1所述的纽扣的抛光方法，其特征在于，包括如下步骤：

（1）在双联涡流抛光机内放入高频瓷粒、待抛光纽扣、硅砂粉、化学抛光剂，加水浸没上述物料；所述待抛光纽扣与高频瓷粒的质量比为1:5-1:7，高频瓷粒的尺寸为2.5*8.0mm，硅砂粉的添加量为固体物料总质量的3%-5%，粒径为300-400目，化学抛光剂的添加量为固体物料总质量的1%-1.5%，所述化学抛光剂为棕榈蜡或高密度氧化聚乙烯蜡的水乳液、有机硅化合物、硬酯酸钠、十二烷基苯磺酸钠和有机硅改性聚醚类表面活性剂中的一种或两种以上的混合物；

（2）设定第一抛光时间5-6h，双联涡流抛光机的转速为100-180转/分钟；

（3）设定第二次抛光时间0.5-1.5h；

（4）清洗纽扣，得光泽度大于80度的全光纽扣。

7.根据权利要求6所述的纽扣的抛光方法，其特征在于，步骤（1）所述化学抛光剂主要由以下重量百分比的原料组成：巴西棕榈蜡乳液75-84wt%，有机硅化合物4-6wt%和硬脂酸钠12-19wt%。

8.根据权利要求1所述的纽扣的抛光方法，其特征在于，包括如下步骤：

（1）在双联涡流抛光机内放入高频瓷粒、待抛光纽扣、硅砂粉、化学抛光剂，加水浸没上述物料；所述待抛光纽扣与高频瓷粒的质量比为1:3-1:5，高频瓷粒的尺寸为3*3mm，硅砂粉的添加量为固体物料总质量的2%-3%，粒径为150-300目，化学抛光剂的添加量为固体物料总质量的0.5%-1%，所述化学抛光剂为石蜡或低密度氧化聚乙烯蜡的水乳液、有机硅化合物、硬酯酸钠、十二烷基苯磺酸钠和有机硅改性聚醚类表面活性剂中的一种或两种以上的混合物；

（2）设定第一抛光时间4-5h，双联涡流抛光机的转速为100-180转/分钟；

（3）设定第二次抛光时间0.5-1h；

（4）清洗纽扣，得光泽度30-80度的半哑光纽扣。

9.根据权利要求1所述的纽扣的抛光方法，其特征在于，包括如下步骤：

（1）在双联涡流抛光机内放入高频瓷粒、待抛光纽扣、硅砂粉、化学抛光剂，并加水浸没上述物料；所述待抛光纽扣与高频瓷粒的质量比为1:2-1:3，高频瓷粒的尺寸为3*3mm，硅砂粉的添加量为固体物料总质量的1%-2%，粒径为150-300目，化学抛光剂的添加量为固体物料总质量的0.5%-1%，所述化学抛光剂为石蜡或低密度氧化聚乙烯蜡的水乳液、有机硅化合物、硬酯酸钠、十二烷基苯磺酸钠和有机硅改性聚醚类表面活性剂中的一种或两种以上的混合物；

（2）设定第一抛光时间2-4h，涡流抛光机的转速为100-180转/分钟；

（3）设定第二次抛光时间0.5-1h；

（4）清洗纽扣，得光泽度小于30度的全哑光纽扣。

10.根据权利要求8或9任一项所述的纽扣的抛光方法，其特征在于，步骤（1）所述化学抛光剂主要由以下重量百分比的原料组成：低密度氧化聚乙烯蜡乳液75-84wt%，有机硅化合物4-6wt%和硬脂酸钠12-19wt%。