[发明专利]电子照相感光构件、其生产方法、处理盒和电子照相设备

说明书

技术领域

本发明涉及电子照相感光构件以及包含电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。

背景技术

作为包含于电子照相设备的电子照相感光构件，已流行开发包含有机光导电性物质的电子照相感光构件。电子照相感光构件通常包括支承体和形成于支承体且包含有机光导电性物质的感光层。此外，感光层通常为包含依次堆叠于支承体上的电荷产生层和电荷输送层的层压型(顺层型)。

在电子照相过程中，使电子照相感光构件的表面与包括显影剂、充电构件、清洁刮板、纸和转印构件的各种材料(以下有时统称为“接触构件”)接触。因此，电子照相感光构件所需的特性之一是源于由这些接触构件引起的接触应力的图像劣化的降低。特别地，近年来，伴随电子照相感光构件耐久性的改善，需要进一步改善源于接触应力的图像劣化的降低效果的持续性和重复使用时电位变化的抑制。

关于接触应力的持续缓和及电子照相感光构件重复使用时电位变化的抑制，国际公开WO2010/008095提出通过使用其中将硅氧烷结构组装成分子链的硅氧烷树脂而在表面层中形成基体-区域结构的方法。该公开描述了通过使用具有组装的特定硅氧烷结构的聚酯树脂可同时获得接触应力的持续缓和及电子照相感光构件重复使用时电位变化的抑制。

虽然国际公开WO2010/008095中公开的电子照相感光构件获得接触应力的持续缓和及重复使用时电位变化的抑制两者，然而需要进一步改善以便实现以更高速度可操作并且能够产生大量印刷张数的电子照相设备。作为由本发明人进行的研究的结果，已揭示通过使电子照相感光构件在形成基体-区域结构时包含特定化合物可实现进一步改善。

发明内容

本发明的目的是提供电子照相感光构件及其生产方法，其中以高水平同时实现接触应力的持续缓和及电子照相感光构件重复使用时电位变化的抑制。另一目的是提供包含电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。

本发明涉及电子照相感光构件，其包括：支承体；形成于支承体上的电荷产生层；和形成于电荷产生层上的电荷输送层，其中电荷输送层为电子照相感光构件的表面层，并且电荷输送层具有基体-区域结构，所述基体-区域结构具有区域和基体，其中区域包含具有由下式(O-1)表示的结构单元和由下式(O-2)表示的结构单元的化合物D以及选自由具有由下式(A-1)表示的结构单元和由下式(B)表示的结构单元的树脂A1和具有由下式(A-2)表示的结构单元和由下式(B)表示的结构单元的树脂A2组成的组的至少一种树脂；和基体包含具有由下式(C)表示的结构单元的树脂C和电荷输送物质，且由式(A-1)表示的结构单元和由式(A-2)表示的结构单元的含量基于树脂A1和树脂A2的总质量为10质量%至40质量%：

其中，m¹¹表示0或1，X¹¹表示邻亚苯基、间亚苯基、对亚苯基、具有经亚甲基键合的两个对亚苯基的二价基团或具有经氧原子键合的两个对亚苯基的二价基团，Z¹¹和Z¹²各自独立地表示具有1至4个碳原子的亚烷基，R¹¹至R¹⁴各自独立地表示具有1至4个碳原子的烷基或苯基，n¹¹表示括号内的结构的重复数，并且树脂A1中n¹¹的平均值在20至150的范围内，

其中，m²¹表示0或1，X²¹表示邻亚苯基、间亚苯基、对亚苯基、具有经亚甲基键合的两个对亚苯基的二价基团或具有经氧原子键合的两个对亚苯基的二价基团，Z²¹至Z²³各自独立地表示具有1至4个碳原子的亚烷基，R¹⁶至R²⁷各自独立地表示具有1至4个碳原子的烷基或苯基，n²¹、n²²和n²³各自独立地表示括号内的结构的重复数，树脂A2中n²¹的平均值在1至10的范围内，树脂A2中n²²的平均值在1至10的范围内，和树脂A2中n²³的平均值在20至200的范围内，