[发明专利]清洁光掩模板的装置和方法有效
| 申请号： | 201310625604.0 | 申请日： | 2013-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN103639151A | 公开（公告）日： | 2014-03-19 |
| 发明（设计）人： | 毛智彪 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | B08B5/00 | 分类号： | B08B5/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 陆花 |
| 地址： | 201203 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 清洁 模板 装置 方法 | ||
1.一种清洁光掩模板的装置，其特征在于包括：具有排气口的腔体；位于所述腔体内的用于固定待清洁光掩模板的平台；能够平行于光掩模板表面移动的喷管，所述喷管具有沿着其长度延伸方向布置的一组喷嘴，所述喷管与含离子气溶剂的产生装置连接；所述平台连接静电导出通道实现电位接地。
2.如权利要求1所述的清洁光掩模板的装置，其特征在于：所述腔体形成一个相对隔绝的空间。
3.如权利要求1所述的清洁光掩模板的装置，其特征在于：所述喷管平行于光掩模板表面移动的行程大于待清洁光掩模板的边长。
4.如权利要求1所述的清洁光掩模板的装置，其特征在于：所述喷嘴的位置位于喷管底部，且靠近喷管喷射时移动方向的前方。
5.如权利要求1所述的清洁光掩模板的装置，其特征在于：所述喷嘴能够以喷管的延伸方向为轴心线转动。
6.如权利要求5所述的清洁光掩模板的装置，其特征在于：所述喷管能够以其延伸方向为轴心线转动和/或喷嘴位于喷管上的角度能够调整。
7.如权利要求1所述的清洁光掩模板的装置，其特征在于：所述排气口的排气量大于喷管的喷气量。
8.如权利要求1所述的清洁光掩模板的装置，其特征在于：所述含离子气溶剂的产生装置包括气源、冷却器、真空腔以及离子发生器，所述气源一方面通过冷却器连接至真空腔，另一方面通过离子发生器连接至真空腔。
9.如权利要求8所述的清洁光掩模板的装置，其特征在于：所述含离子气溶剂的产生装置还包括用于控制流量和喷速的调节阀。
10.一种如权利要求1所述的装置的清洁光掩模板的方法，其特征在于包括如下步骤：
a)将待清洁光掩模板放入腔体中的平台上；
b)开启含离子气溶剂的产生装置；
c)平行移动喷管将含离子气溶剂均匀地喷射在光掩模板表面；
d)将光掩模板从腔体中取出，并对光掩模板的清洁度进行检查。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司，未经上海华力微电子有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310625604.0/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种基于中药废弃物的微生物有机复合肥及其制备方法
- 下一篇：加强透水模板
