[发明专利]边缘曝光装置

权利要求书

1.一种边缘曝光装置，包括：

吸附旋转台，用于吸附和带动硅片旋转，从而进行边缘曝光；

马达，为所述吸附旋转台提供动力；

边缘曝光镜头组件，包括边缘曝光镜头和曝光光斑监控镜头，用于对硅片边缘的光刻胶进行曝光、监控，并反馈曝光参数；

所述边缘曝光镜头沿光传播方向依次包括：曝光光源，第一、第二复眼透镜，正交放置的第一柱面变倍镜组和第二柱面变倍镜组以及分光镜；曝光光源产生的光束经由第一、第二复眼透镜分波面匀光后，由第一、第二柱面变倍镜组变倍和调整光束大小，再经分光镜，照射在硅片边缘和曝光光斑监控镜头上；

以及

控制器，分别与所述马达和边缘曝光镜头组件连接，并控制马达、边缘曝光镜头和曝光光斑监控镜头动作。

2.如权利要求1所述的边缘曝光装置，其特征在于，所述曝光光斑监控镜头沿光传播方向依次包括：衰减片、探测镜头和探测器；硅片表面曝光场能量经衰减片、探测镜头后，由探测器接收，探测器将接收到的信息反馈给控制器。

3.如权利要求2所述的边缘曝光装置，其特征在于，所述探测器为CCD或能量探测器。

4.如权利要求1所述的边缘曝光装置，其特征在于，所述边缘曝光镜头还包括设置在曝光光源与第一复眼透镜之间的耦合镜组，曝光光源产生的光束经耦合镜组到达第一、第二复眼透镜进行分波面匀光。

5.如权利要求1所述的边缘曝光装置，其特征在于，硅片边缘曝光场为长方形，其长度和宽度至少其中之一为可调的，其满足：

DFT=PLA1*fFLfLA1*fLA2*[(fLA1+fLA2)-D12]]]>

其中，D_FT为曝光场的长度或宽度；P_LA1为第一复眼透镜的微透镜间距；f_LA1、f_LA2分别为第一、第二复眼透镜的焦距；f_FL为第一柱面变倍镜组或第二柱面变倍镜组的组合焦距；D₁₂为第一、第二复眼透镜的间距。

6.如权利要求5所述的边缘曝光装置，其特征在于，所述第一柱面变倍透镜组沿光传播方向依次包括第一柱面透镜组和第二柱面透镜组；第二柱面变倍透镜组沿光传播方向依次包括第三柱面透镜组和第四柱面透镜组。