[发明专利]一种光学扩散膜片制作方法

权利要求书

1.一种光学扩散膜片制作方法，其步骤包括:

A.一刀具刻画一模仁时，于模仁表面刻画第一维度方向正交第二维度方向夹角大于0度且小于90度，形成具有波峰与波谷格子状一凹凸结构，周期为1µm～1m之间，波峰与波谷的深度差在1µm～1mm之间；

B.将涂布胶的一膜片，经由模仁于膜片表面压印，并同时利用一光源曝光固化，于膜片表面形成与凹凸结构相对应的结构；

C.对膜片进行裁切。

2.根据权利要求1所述的光学扩膜散片制作方法，其特征在于在步骤A中所述凹凸结构经由二次或三次的刻画加工形成二维的格子状结构。

3.根据权利要求1所述的光学扩散膜片制作方法，其特征在于在步骤A所述模仁为一滚筒模仁或一平面模仁。

4.根据权利要求3所述的光学扩散膜片制作方法，其特征在于所述滚筒模仁为塑料、金属或金属合金材质。

5.根据权利要求3所述的光学扩散膜片制作方法，其特征在于所述平面模仁为塑料、金属或金属合金材质。

6.根据权利要求1所述的光学扩散膜片制作方法，其特征在于在步骤A中所述刀具为钻石、金属或金属合金。

7.根据权利要求1所述的光学扩散膜片制作方法，其特征在于在步骤A中所述刀具刻画模仁，可以相同深度刻画或是变化刻画的深度，于模仁表面形成凹凸结构。

8.根据权利要求1所述的光学扩散膜片制作方法，其特征在于在步骤A中所述凹凸结构为正弦形、非球面形或多边形。

9.根据权利要求1所述的光学扩散膜片制作方法，其特征在于在步骤B中所述膜片为聚丙烯、聚乙烯对苯二甲酸酯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚酸甲酯或聚甲基丙烯酸。

10.根据权利要求1所述的光学扩散膜片制作方法，其特征在于在步骤B中所述光源为紫外线、黄光、红外线、X射线、伽马射线或电子束。

11.一种光学扩散膜片制作方法，其特征在于包括如下步骤:

A.一刀具刻画一模仁时，于模仁表面刻画第一维度方向正交第二维度方向夹角大于0度且小于90度，形成具有波峰与波谷格子状一凹凸结构，周期为1µm～1m之间，波峰与波谷的深度差在1µm～1mm之间；

B.将涂布胶的一膜片，经由模仁于膜片表面压印，并同时利用热压转印，于膜片表面形成与凹凸结构相对应的结构；

C.对膜片进行裁切。

12.根据权利要求11所述的光学扩散膜片制作方法，其特征在于在步骤A中所述凹凸结构经由二次或三次的刻画加工形成二维的格子状结构。

13.根据权利要求11所述的光学扩散膜片制作方法，其特征在于在步骤A中所述模仁为一滚筒模仁或一平面模仁。

14.根据权利要求13所述的光学扩散膜片制作方法，其特征在于所述滚筒模仁为塑料、金属或金属合金材质。

15.根据权利要求13所述的光学扩散膜片制作方法，其特征在于所述平面模仁为塑料、金属或金属合金材质。

16.根据权利要求11所述的光学扩散膜片的制作方法，其特征在于在步骤A中所述刀具为钻石、金属或金属合金。

17.根据权利要求11所述的光学扩散膜片制作方法，其特征在于在步骤A中所述刀具刻画模仁，可以相同深度刻画或是变化刻画的深度，于模仁表面形成凹凸结构。

18.根据权利要求11所述的光学扩散膜片制作方法，其特征在于在步骤A中所述凹凸结构为正弦形、非球面形或多边形。

19.根据权利要求11所述的光学扩散膜片制作方法，其特征在于在步骤B中所述膜片为聚丙烯、聚乙烯对苯二甲酸酯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚酸甲酯或聚甲基丙烯酸。

20.根据权利要求11所述的光学扩散膜片制作方法，其特征在于步骤B中热压温度为360K至480K之间。