[发明专利]单晶硅片的抛光方法、太阳能电池片及其制作方法有效
申请号: | 201310602911.7 | 申请日: | 2013-11-25 |
公开(公告)号: | CN103603055A | 公开(公告)日: | 2014-02-26 |
发明(设计)人: | 闫英丽;汤欢;范志东;马继奎 | 申请(专利权)人: | 英利能源(中国)有限公司 |
主分类号: | C30B33/10 | 分类号: | C30B33/10;H01L31/18 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 吴贵明;张永明 |
地址: | 071051 河*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 单晶硅 抛光 方法 太阳能电池 及其 制作方法 | ||
1.一种单晶硅片的抛光方法,其特征在于,将制绒后的所述单晶硅片的用于制作背场的背面置于抛光液中、正面置于所述抛光液外进行化学抛光。
2.根据权利要求1所述的抛光方法,其特征在于,所述抛光液为硝酸和氢氟酸的混合液。
3.根据权利要求2所述的抛光方法,其特征在于,所述抛光液中所述硝酸和所述氢氟酸的体积比为10:1~15:1,所述硝酸的质量百分比浓度为55~75%,所述氢氟酸的质量百分比浓度为30~50%,抛光时间为3.77~5.48分钟。
4.根据权利要求3所述的抛光方法,其特征在于,所述抛光液中所述硝酸和所述氢氟酸的体积比为12:1~14:1,所述硝酸的质量百分比浓度为60~70%,所述氢氟酸的质量百分比浓度为35~45%,抛光时间为4.12~5.02分钟。
5.根据权利要求4所述的抛光方法,其特征在于,所述抛光液中所述硝酸和所述氢氟酸的体积比为13:1,所述硝酸的质量百分比浓度为65%,所述氢氟酸的质量百分比浓度为40%,抛光时间为4.54分钟。
6.根据权利要求2所述的抛光方法,其特征在于,所述硝酸的自动补液量为0.2~0.6L/100片,所述氢氟酸的自动补液量为0.1~0.3L/100片。
7.一种太阳能电池片的制作方法,包括对单晶硅片抛光的步骤,其特征在于,所述抛光步骤采用权利要求1至6中任一项所述的抛光方法实施。
8.一种太阳能电池片,其特征在于,所述太阳能电池片采用权利要求7所述的制作方法制作而成。
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