[发明专利]一种川贝母种子的休眠后熟处理方法有效

专利信息
申请号: 201310602145.4 申请日: 2013-11-21
公开(公告)号: CN103597928A 公开(公告)日: 2014-02-26
发明(设计)人: 薛刚;韩开华;余强;王强;王晓蓉 申请(专利权)人: 薛刚
主分类号: A01C1/00 分类号: A01C1/00
代理公司: 成都金英专利代理事务所(普通合伙) 51218 代理人: 袁英
地址: 610000 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 川贝母 种子 休眠 处理 方法
【说明书】:

技术领域

本发明属于药物栽培技术领域,具体涉及一种川贝母种子的休眠后熟处理方法。

背景技术

川贝母为百合科贝母属的川贝母、暗紫贝母、甘肃贝母、梭砂贝母、太白贝母或瓦布贝母的干燥鳞茎。主要分布于我国青藏高原东南缘、四川西部、云南迪庆州、甘肃陇南地区及青海局部地区。川贝母苦、甘,微寒,归肺心经,具有清化热痰、润肺止咳、散结消肿的作用,用于肺热燥咳,干咳少痰,阴虚劳嗽,咳痰带血,是临床上较为常用的一味中药材。

川贝母为多年生草本植物,喜欢冷凉的气候条件,具有耐寒、喜湿、怕高温、喜荫蔽的特性。植株高l5~50cm,鳞茎由2枚鳞片组成,直径l~1.5cm。川贝母野生状态下生长缓慢,在种子繁殖过程中,种子萌发后依序通过实生苗,营养生长,生殖生长而发育成熟,种子播种第1年只生长一叶,细长,呈针状,故称为一颗针,第2年仍为一叶,呈狭长披针形,状如鸡舌,俗称鸡舌头,此两年为实生苗阶段,鳞茎生长缓慢;第3年地上部分大多数为一叶,呈披针形,称一匹叶,偶有二叶称双飘带,第4年开始抽茎,习称树儿子,但一般不开花,第3年和第4年地下鳞茎生长迅速,为贝母营养生长更新阶段;第5年开始发育花茎和花,习称灯笼花,并结实进行生殖生长。

川贝母种子具有休眠性,在野生状态下很难打破休眠,要使其出苗率高,出苗整齐,必须得研究种子休眠特性及其后熟处理方法。休眠是指植物体或其器官在发育的某个时期生长和代谢暂时处于停顿的现象,通常特指由内部生理原因决定,即使外界温度、湿度适宜也不能萌动和生长的现象。种子、茎(包括鳞茎、块茎)、块根上的芽都可以处于休眠状态。现代研究已表明众多种子果实成熟后,遇到雨水或高温,种子就会萌芽,这种现象称为胎芽。胎芽的出现不但影响种子的储藏,也影响种子来年的生长发育,甚至不能作为次年播种。关于川贝母的后熟处理研究较多,但关于其休眠特性研究较少。专利200610172188.3公开了一种处理川贝母秋播种子的方法,该方法将当年收获的饱满种子用土混匀,置于避光湿润条件下储藏3-15周,再用浓度为10-80PPM赤霉素溶液浸泡,将浸泡后的种子晾干播种。专利200910164338.X公开了一种采用赤霉素并结合低温沙藏层积处理方法,方法采用赤霉素并结合低温沙藏层积处理方法,使川贝母种子能在较短时间内完成生理和形态上的后熟,再采用秋水仙素溶液对已完成后熟作用的川贝母种子进行多倍体诱导处理,培育出有效成分含量高的川贝母多倍体新品种。这两种方法均具有较高的出苗率及齐苗也较为整齐,但是这两种方法中均运用了赤霉素,赤霉素属于化学药品对川贝母种子的休眠机制是何影响,是否有层积效应等问题均未得到证实,进而在工业化大生产中并未得到广泛使用。因此,在工业化大生产中需要一种新的能提高种子发芽率,出苗整齐度,且无药物残留,绿色环保的川贝母种子处理方法。

发明内容

为解决现有技术川贝母种子休眠后熟处理之后种子发育率低,齐苗不整齐及现有技术采用化学药品赤霉素进行破眠处理的问题。本发明提供一种无需采用化学药品或采用常规自然层积方法对种子进行后熟破眠处理的方法,该方法绿色环保,能提高川贝母的出苗率,改善川贝母后期的生长状况,提高川贝母的产量。

一种川贝母种子的休眠后熟处理方法,它包括以下步骤:

S1:将川贝母种子与种子用土混合,装入塑料包装袋内,然后抽去包装袋内部的空气,密封袋口;

S2:将S1步骤已密封完整的包装袋再装入阻气保护袋内,抽去阻气保护袋内空气,密封袋口制备成川贝母种子袋;

S3:将川贝母种子袋放入存储室进行6~12个月避光处理;

S4:将S3步骤处理后的种子取出,用温度为30~40℃的水中浸泡8~12h;

S5:将4步骤处理后的种子滤出,放置在光照强度为4000~8000Lx照射12~24h,即可播种。

优选地,S1步骤所述的种子用土的使用量为川贝母种子体积的2~3倍,所述种植用土的湿度低于20%。

优选地,S1步骤所述的种子用土为腐殖土、黄土或沙土的至少一种。

优选地,在S2步骤中,在抽去阻气保护袋内空气之后,向袋内充入二氧化碳气体,然后再密封袋口制备成川贝母种子袋;

优选地,S3步骤所述的避光处理时间为8~10个月;

优选地,S3步骤所述的避光处理室内温度保持在6~15℃,湿度保持在20~40%。

优选地,S4步骤所述的水的温度为30~35℃,浸泡时间8~10h。

优选地,S5步骤所述的光照强度为4000~6000Lx,所述的照射时间为12~16h。

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