[发明专利]一种印刷线路板水性清洗剂在审

专利信息
申请号: 201310600032.0 申请日: 2013-11-25
公开(公告)号: CN104651075A 公开(公告)日: 2015-05-27
发明(设计)人: 刘现梅 申请(专利权)人: 刘现梅
主分类号: C11D1/83 分类号: C11D1/83;C11D3/60;C11D3/30;C11D3/36;C11D3/20;C11D3/34
代理公司: 代理人:
地址: 264006 山东省烟*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 印刷 线路板 水性 洗剂
【说明书】:

技术领域

发明涉及电子工业印刷线路板清洗领域,尤指一种印刷线路板水性清洗剂。               

背景技术

电子行业中,绝大多数企业都在使用印刷线路板,印刷线路板在印刷之前需要清除以前生产过程中遗留下来的污染物,诸如油污、尘土和碎片等,然后开始在上面印刷保护膜,保护留下的铜箔,留下的就是电路了,多余的就用带有化学方法去掉,再清洗,以便以后的防焊漆和助焊漆的印刷。因此,清洗是电子制造的一个重要环节。 传统的三氯乙烷和CFC的溶剂清洗剂曾一度控制市场,但是,因为他们对臭氧的潜在破坏力,已被其他各种溶剂型清洗剂所替代。这些溶剂型清洗剂现在主要被分为三种:易燃的溶剂型清洗剂,不易燃溶剂型清洗剂和不易燃卤化溶剂型清洗剂。这三种类型各有优缺点,但是总体上说溶剂型清洗剂是挥发快、可独立使用的清洗剂,然而,他们需要特殊设备和通风装置以免受到毒性和其它可能危险的伤害。水性清洗剂是危害臭氧层化学品的替代品,并同时可减少了溶剂的排放。                 

发明内容

本发明一种含有松油醇副产萜烯的组件焊接后印刷线路板清洗剂,其特征在于克服上述溶剂型清洗剂技术之不足,提供一种适宜于印刷线路板在印刷之前使用的水性清洗剂,实现减少了溶剂的排放和干净清洗印刷线路板之目的。 

为了实现上述目的,本发明的技术解决方案为:一种印刷线路板水性清洗剂是由乙氧基化烷基硫酸钠、仲烷基磺酸钠、非离子表面活性剂磷酸酯盐、铜缓蚀剂、抗氧化剂、氨基磺酸和柠檬酸组成,各组分及其质量百分含量为:  

乙氧基化烷基硫酸钠                3~4%

仲烷基磺酸钠                      2~3%

非离子表面活性剂磷酸酯盐          1~2%

铜缓蚀剂                     0.05~0.2%

抗氧化剂                          1~3%

氨基磺酸                          4~8%

柠檬酸                            2~4%

水                              76~85%

进一步的,所述的铜缓蚀剂是次甲基苯三唑,是具有如下通式结构的液体化合物:

              

式中,R1为氢或烷基;R2和R3为C2~C8羟烷基;

所述的非离子表面活性剂磷酸酯盐优选烷基糖苷磷酸酯盐;

所述的抗氧化剂是植酸和抗坏血酸中的一种或两种。

本发明的制备方法是:在搅拌的条件下,氨基磺酸和柠檬酸溶解于水中,于10℃~30℃的温度下,保持搅拌,再依次加入抗氧化剂、乙氧基化烷基硫酸钠、仲烷基磺酸钠、非离子表面活性剂磷酸酯盐和铜缓蚀剂,继续搅拌待各组分溶解后,停止搅拌,过滤即可得产品。

本发明的优点和特点是:适宜于印刷线路板在印刷之前使用的水性清洗剂,具有清洗干净,减少了溶剂和改善工作环境等优点和特点。

具体实施方式

实施例1

在玻璃烧杯中,在搅拌的条件下,40克氨基磺酸和10克柠檬酸溶解于390克水中,于10℃~30℃的温度下,保持搅拌,再依次加入15克植酸、20克乙氧基化烷基硫酸钠、15克仲烷基磺酸钠、10克烷基糖苷磷酸酯盐和1克铜缓蚀剂,继续搅拌待各组分溶解后,停止搅拌,过滤即可得产品。

实施例2

在反应釜中,搅拌的条件下,4千克氨基磺酸和4千克柠檬酸溶解于85千克水中,于10℃~30℃的温度下,保持搅拌,再依次加入1千克抗坏血酸、3千克乙氧基化烷基硫酸钠、2千克仲烷基磺酸钠、1千克烷基糖苷磷酸酯盐和0.05千克铜缓蚀剂,继续搅拌待各组分溶解后,停止搅拌,过滤即可得产品。

实施例3

在反应釜中,搅拌的条件下,6千克氨基磺酸和3千克柠檬酸溶解于81千克水中,于10℃~30℃的温度下,保持搅拌,再依次加入1.4千克植酸、1千克抗坏血酸、3.5千克乙氧基化烷基硫酸钠、2.5千克仲烷基磺酸钠、1.5千克烷基糖苷磷酸酯盐和0.1千克铜缓蚀剂,继续搅拌待各组分溶解后,停止搅拌,过滤即可得产品。

以上所述,实施方式仅仅是对本发明的优选实施方式进行描述,并非对本发明的范围进行限定,在不脱离本发明技术的精神的前提下,本领域工程技术人员对本发明的技术方案作出的各种变形和改进,均应落入本发明的权利要求书确定的保护范围内。

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