[发明专利]一种有机富镁合金涂料及其制备方法无效
申请号: | 201310599700.2 | 申请日: | 2013-11-25 |
公开(公告)号: | CN103614047A | 公开(公告)日: | 2014-03-05 |
发明(设计)人: | 王贵;赵娟;黄即;张鹏 | 申请(专利权)人: | 王贵;广东海洋大学 |
主分类号: | C09D163/00 | 分类号: | C09D163/00;C09D7/12;C09D5/10 |
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地址: | 524088 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 有机 镁合金 涂料 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种基于阴极保护原理的富镁合金涂料,特别适用于铝材等活泼金属材料。
背景技术
富镁涂料被证明是一种能够长效的对铝合金进行保护涂料,其耐蚀性能优良,且无毒环保。但是,由于涂料中采用纯镁颗粒作为填料,而纯镁颗粒化学性质活泼、自溶倾向大,导致提供阴极保护时间较短,涂料防护寿命有限。如专利文献CN101885940A中所述富镁涂料耐盐雾时间最高仅为504小时。
本发明针对富镁涂料在高湿度、高盐度等盐雾环境中防护时间短,易失效等不足,为延长镁系涂料在盐雾环境下的耐蚀性能,以AZ91D镁合金为填料,制备了一种有机富AZ91D涂料,提高涂料在盐雾环境下的耐蚀性能。
发明内容
本发明的目的在于,提高涂料在盐雾环境中的耐蚀性能。
为达到上述目的,所述有机涂料采用涂料中加入填料的方法,加入涂料中的填料的量常用颜料体积浓度(PVC)来衡量。其中,所述颜料体积浓度PVC=填料体积/(填料体积+树脂体积)。
所述有机涂料包括树脂、填料、固化剂、消泡剂、偶联剂和溶剂。
所述树脂优选为环氧树脂;所述填料为AZ91D,其PVC数值范围为35%~65%,优选为45%~55%,最佳为50%;所述固化剂优选为聚酰胺树脂;偶联剂优选为酞酸酯偶联剂;所述消泡剂与树脂的质量比范围为0.6%~1%;所述偶联剂与树脂质量比范围为0.7%~1.2%;所述溶剂包括二甲苯和正丁醇,其质量比为7:3;所述溶剂与树脂质量比范围为1:1~3.3:1。
本发明的制备工艺主要步骤如下:首先根据各物质的密度将体积单位换算为质量单位,便于实际操作。
(1)称量:按照配料表称取所需填料粉末放在试纸上,按照配料表称取树脂、聚酰胺分别放在不同容器内待用。
(2)环氧树脂和聚酰胺树脂稀释液的配制。按照配料表称取二甲苯与正丁醇融合、搅匀制成溶剂,均分成两份,分别倒入上述盛有环氧树脂、聚酰胺的容器内,搅拌后制成环氧树脂稀释液和聚酰胺稀释液。
(3)混合:将镁合金AZ91D粉末倒入上述环氧树脂稀释液中,并加入消泡剂、钛酸酯偶联剂,搅拌均匀。
(4)搅拌熟化:最后将上述聚酰胺稀释液加入到环氧树脂稀释液中,利用磁力搅拌器搅拌40分钟,取下静置熟化10分钟,得到有机富AZ91D涂料,即可进行涂装。
本发明原理及效果如下:涂料中AZ91D镁合金颗粒相对于纯镁具有较低的活性,富AZ91D涂料在整个盐雾过程中,腐蚀反应相对于富镁涂料腐蚀速率较慢,且能够保证提供足够时间的阴极保护,因而表现为有机富AZ91D涂料在盐雾环境相对于富镁涂料具有更出色的耐腐蚀性能。
附图说明
图1为在PVC为50%条件下富镁涂料盐雾不同时间下的阻抗模值图;图2为在PVC为50%条件下富AZ91D镁合金两种涂料盐雾不同时间下的阻抗模值图。
具体实施方式
所述有机涂料的填料PVC数值分别取35%、50%、65%。另在PVC为50%条件下,取等质量的纯镁粉为填料,做对比实验,表1为不同颜料体积浓度PVC下有机涂料的各组份配料表,各组份配比如下表1。
表1 不同颜料体积浓度配料表。
表2为不同体积浓度条件下的有机涂料的耐盐雾时间,从表2看到,经过不同时间盐雾实验之后,PVC50%的耐盐雾时间最长,达到960h。而PVC35%和PVC65%的涂料由于添加的AZ91D量少或者多,耐盐雾性能都不及PVC50%的涂料。
表2 不同体积浓度涂料耐盐雾时间。
图1、图2分别为在PVC为50%条件下富镁和富镁合金两种涂料盐雾不同时间下的阻抗模值图。如图1可知富镁涂层在480h时已经降到107Ω·cm2,说明已接近失效,到720h时低频阻抗值已降到107Ω·cm2以下,此时通常认为涂层已经对基体失去保护作用。如图2,有机富AZ91D涂层在此过程,低频阻抗模值下降缓慢,盐雾720h后仍然具有较高低频阻抗值,在5×107Ω·cm2,说明环氧涂层对基体仍具有较好的抗腐蚀保护,这归功于涂层中AZ91D镁合金颗粒相对于纯镁具有较低的活性,宏观地表现为有机富AZ91D涂层在盐雾环境相对于富镁涂层具有更出色的耐腐蚀性能。
最后说明,以上实施例仅用以说明本发明技术方案而非限制,尽管参照较佳实施例对本发明进行了详细说明,本领域的普通技术人员应当理解,可以对本发明的技术方案某些或者全部技术特征进行修改或者/和等同替换,而不脱离本发明技术方案的宗旨和范围,其均应涵盖在本发明的权利要求范围当中。
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