[发明专利]磁流变液回转内表面抛光系统无效
| 申请号： | 201310599457.4 | 申请日： | 2013-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN103600268A | 公开（公告）日： | 2014-02-26 |
| 发明（设计）人： | 曹修全;姚进;刘洋;余德平;吴杰;王万平;童春 | 申请（专利权）人： | 四川大学 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610065 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 流变 回转 表面 抛光 系统 | ||
【权利要求书】：
1.磁流变液回转内表面抛光系统，其特征在于：主要由数控系统、抛光工件、心轴、磁场发生装置和抛光池组成，其中，1）所述的抛光工件固定于抛光池中；2）所述的心轴轴心线与抛光工件回转内表面轴心线重合，并置于抛光工件回转内表面中；3）所述的磁场发生装置的一极为心轴，另一极沿着回转内表面周向布置，且沿着抛光工件母线各点产生的磁场力大小可调；4）所述的抛光池中装入混有磨料的磁流变液。
2.根据权利要求1所述的磁流变液回转内表面抛光系统，其特征在于：所述的抛光工件回转内表面母线为直线或曲线。
3.根据权利要求1所述的磁流变液回转内表面抛光系统，其特征在于：所述的心轴母线为与抛光工件回转内表面相同的直线或者曲线，且与抛光工件回转内表面母线平行放置。
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