[发明专利]一种等离子体刻蚀设备有效
| 申请号： | 201310597934.3 | 申请日： | 2013-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN103646841A | 公开（公告）日： | 2014-03-19 |
| 发明（设计）人： | 邵克坚;冯翔 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 竺路玲 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 刻蚀 设备 | ||
1.一种等离子体刻蚀设备，其特征在于，所述设备包括反应腔体、盖板、静电吸附盘、悬臂以及分子泵；
所述盖板位于所述反应腔体的顶部，且在该盖板的中心区域设置有气体喷嘴；
所述静电吸附盘悬浮于所述反应腔体内部，并通过所述悬臂的支撑作用而水平悬浮于所述反应腔体中；
所述悬臂的一端固定于所述反应腔体的内侧壁，所述悬臂的另一端与所述静电吸附盘的侧壁相连接，且所述悬臂上设置有若干个于竖直方向贯穿该悬臂的孔洞；所述分子泵位于所述反应腔体的下方。
2.如权利要求1所述的等离子体刻蚀设备，其特征在于，所述反应腔体为真空反应腔体。
3.如权利要求2所述的等离子体刻蚀设备，其特征在于，所述反应腔体为正圆形的对称式结构。
4.如权利要求1所述的等离子体刻蚀设备，其特征在于，所述气体喷嘴与所述盖板之间为密封连接。
5.如权利要求4所述的等离子体刻蚀设备，其特征在于，所述气体喷嘴与上方的气体输入管相连接。
6.如权利要求5所述的等离子体刻蚀设备，其特征在于，所述气体喷嘴的喷口为可调节式结构。
7.如权利要求1所述的等离子体刻蚀设备，其特征在于，所述分子泵的排气导向为中心对称分布。
8.如权利要求1所述的等离子体刻蚀设备，其特征在于，所述反应腔体的底部为开口式结构，并与所述分子泵之间存在一定的间隙。
9.如权利要求1所述的等离子体刻蚀设备，其特征在于，所述悬臂为中空式结构，且所述中空式结构内设置有电线，所述电线的一端与所述静电吸附盘连接，另一端与外界电源连接。
10.如权利要求9所述的等离子体刻蚀设备，其特征在于，所述孔洞与所述中空式结构没有交叠。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司，未经上海华力微电子有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310597934.3/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种剑杆织机模拟系统及其模拟方法
- 下一篇：一种汽车三元催化器的清洗方法
