[发明专利]一种电容触控屏的结构和制作方法无效
| 申请号: | 201310594240.4 | 申请日: | 2013-11-20 |
| 公开(公告)号: | CN103631465A | 公开(公告)日: | 2014-03-12 |
| 发明(设计)人: | 萧名男;王力威;崔继文;李凌翔 | 申请(专利权)人: | 佳晶光电(厦门)有限公司 |
| 主分类号: | G06F3/044 | 分类号: | G06F3/044 |
| 代理公司: | 厦门市首创君合专利事务所有限公司 35204 | 代理人: | 杨依展 |
| 地址: | 361000 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 电容 触控屏 结构 制作方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种电容式触控屏的结构和制作方法。
背景技术
一般传统的电容屏制作方法是利用类似半导体制程技术或者传统电阻屏丝印技术来实现,其中包括薄膜、黄光(丝印)、蚀刻等技术,其制作时间耗费过长、且制作设备费用高昂等问题。
传统电容屏感应器的制程,必须先利用PVD溅镀透明导电薄膜,金属导电薄膜等,再使用光刻或丝印制程与蚀刻制程定义图案;溅镀设备与光刻设备比较昂贵。另一方面,光刻、丝印等步骤带来的工序时间较长、物料消耗大,工艺成本高。
发明内容
针对现有电容式触控屏生产工艺中时间、物料方面的工艺成本高、周期长的缺陷,本发明提出一种电容屏的结构和制作方法,其技术方案如下:
一种电容触控屏的制作方法,它包括以下步骤:
1)提供一透光绝缘的基板;
2)将纳米级导电材料与有机溶剂混合为透明的导电悬浊液,再通过一喷墨设备将该导电悬浊液喷涂于所述基板的一面,固化后得到第一导电层;该第一导电层的覆盖区域为电容屏触控电极图案遍及的区域;
3)在已经成型所述第一导电层的基板上利用所述导电悬浊液使用喷墨设备喷涂并使其固化得到一第二导电层;该第二导电层与第一导电层良好绝缘并构成电容式触控屏的传感器;
其中,所述导电悬浊液的热膨胀系数与所述基板相当;所述第一导电层、第二导电层其表面阻值小于300hm,厚度小于1000埃,穿透率大于93%;所述纳米级导电材料为金属导体和/或半导体。
本方案的改进者可以有如下的体现:
在一类较佳实施例中,所述第一导电层和第二导电层分别位于所述基板的两面。
在另一类较佳实施例中所述第一导电层的上表面具有一中间层,所述第二导电层配合于该中间层的上表面;该第一导电层和第二导电层通过所述中间层实现绝缘;该第二导电层在所述中间层上的投影全部位于该中间层范围内。
在较佳实施例中,所述中间层以整面涂布的方式,再进行常用蚀刻工艺成型于所述第一导电层上表面。
在较佳实施例中,所述中间层采用绝缘材料调配于有机溶剂得到的绝缘悬浊液,以喷涂再固化的方式成型于所述第一导电层的上表面。
在较佳实施例中,所述纳米级金属材料包括铜、银、铝、铬、钼和/或钨;其线径为5-30um,长度为40-400nm。
在较佳实施例中,所述有机溶剂为光固化、热固化或光启始剂的有机溶剂。
本发明的触控屏结构方案是:
一种电容触控屏的结构,它包括:
一透明绝缘的基板;
一第一导电层,使用导电悬浊液喷涂后固化在所述基板的一面得到,该第一导电层该第一导电层的覆盖区域为电容屏触控电极图案遍及的区域;
一绝缘层,配合于所述第一导电层的上表面;以及
一第二导电层,为所述导电悬浊液喷涂后固化在所述绝缘层的上表面的形态;其中
其中,所述导电悬浊液的热膨胀系数与所述基板相当;所述第一导电层、第二导电层其表面阻值小于300hm,厚度小于1000埃,穿透率大于93%。
同样的方案,另一种表现结构是:
一种电容触控屏的结构,它包括:
一透明绝缘的基板;
一第一导电层,使用导电悬浊液喷涂后固化在所述基板的一面得到,该第一导电层该第一导电层的覆盖区域为电容屏触控电极图案遍及的区域;
一第二导电层,为所述导电悬浊液喷涂后固化在所述基板的另一面得到;其中,所述导电悬浊液的热膨胀系数与所述基板相当;所述第一导电层、第二导电层其表面阻值小于300hm,厚度小于1000埃,穿透率大于93%。
本方案带来的有益效果有:
1.本方案传感器电极均采用了喷涂的方式,省略了转印模具和额外的耗材,也省略了模具的配合时间;所以在电极成型的整个工艺中,有简单而快速的制造流程,也节省设备的支出。特别地,本发明可直接控制图形深度,无须额外步骤,当电极参数更改频繁时,本方案的工艺优势就尤为明显。
2.第一导电层和第二导电层通过中间层实现绝缘,基板可以在相同姿态下完成传感器成型,生成速度更快。
3.第一导电层和第二导电层分别位于基板的两面,充分利用了基板的绝缘性能来构成传感器的电容,其电容值稳定,精度高,
附图说明
以下结合附图实施例对本发明作进一步说明:
图1是本发明实施例一的第一个工序状态示意图;
图2是本发明实施例一的第二个工序状态示意图;
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