[发明专利]一种国画用研墨器在审
申请号: | 201310591362.8 | 申请日: | 2013-11-22 |
公开(公告)号: | CN103640381A | 公开(公告)日: | 2014-03-19 |
发明(设计)人: | 陈洋 | 申请(专利权)人: | 大连创达技术交易市场有限公司 |
主分类号: | B43L27/00 | 分类号: | B43L27/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 116011 辽宁省*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 国画 用研墨器 | ||
技术领域
本发明涉及一种研墨器,具体讲是涉及一种国画用研墨器,其属于书法绘画磨墨装置技术领域。
背景技术
墨是中国古代书写和绘画用到的墨锭,通过砚用水研磨可以产生用于毛笔书写的墨汁,在水中以胶体的溶液存在。现有的研墨装置只要为节约人力而设计,并不能控制研磨时的速度和压力,研磨出来的墨有着不同差异,并且其在研磨的过程中会对周围的环境产生污染,并且难以清理。
发明内容
鉴于现有技术存在的问题,本发明的目的是要提供一种结构简单、方便使用的国画用研墨器。
为了实现上述目的,本发明所采用的技术方案为一种国画用研墨器,其包括砚台基座、固定于砚台基座侧壁的电机、与电机相连接的控制器和通过连接杆固定与砚台基座的墨块夹持装置,所述墨块夹持装置通过电机控制;其特征在于:所述连接杆有连接杆a和连接杆b构成,连接杆a与连接杆b上分别设有若干个通孔,连接杆a和连接杆b的通孔直径相同,锁紧螺母穿过连接杆a和连接杆b的通孔将连接杆a和连接杆b固定,连接杆a以锁紧螺母为轴做纵向旋转;砚台基座上设有可分离的砚台罩,砚台表面设有自洁层。
所述自洁层由纳米级二氧化钛和纳米级二氧化硅喷涂层和石蜡层构成。
所述通孔的内径相同,通孔之间的距离为1~3cm。
所述砚台罩为透光材料。
所述连接杆a与连接杆b的工作用长短,通过调节锁紧螺母的位置的进行调节。
本发明的优点在于:通过调整锁紧螺母的位置调节墨块夹持装置相对于砚台的位置,控制很好的控制墨块与砚台之间的距离;在砚台基座外设有砚台罩,其将工作时,将砚台罩罩在砚台基座上,放在研墨时,墨汁迸溅造成的工作地面的污染,难以清洗的问题。并且砚台基座设有加热层,其可以控制砚台基座的温度,使得研墨过程处于一个最佳的问题,砚台基座中空腔通入水,可以在不加热的情况下,通过注入水的温度控制研墨的温度。
附图说明
图1为本发明的结构示意图;
图2为砚台基座的剖视图;
图中:1、砚台基座,2、电机,3、控制器,4、砚台罩,5、墨块夹持装置,6、锁紧螺母,7、连接杆b,8、连接杆a,9、自洁层。
具体实施方式
一种国画用研墨器,其包括砚台基座、固定于砚台基座侧壁的电机、与电机相连接的控制器和通过连接杆固定与砚台基座的墨块夹持装置,所述墨块夹持装置通过电机控制;其特征在于:所述连接杆有连接杆a和连接杆b构成,连接杆a与连接杆b上分别设有若干个通孔,连接杆a和连接杆b的通孔直径相同,锁紧螺母穿过连接杆a和连接杆b的通孔将连接杆a和连接杆b固定,连接杆a以锁紧螺母为轴做纵向旋转;砚台基座上设有可分离的砚台罩,砚台表面设有自洁层。
所述自洁层由纳米级二氧化钛和纳米级二氧化硅喷涂层和石蜡层构成。
所述通孔的内径相同,通孔之间的距离为1~3cm。
所述砚台罩为透光材料。
所述连接杆a与连接杆b的工作用长短,通过调节锁紧螺母的位置的进行调节。
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