[发明专利]一种测量单个纳米粒子光谱的方法

权利要求书

1.一种测量单个纳米粒子光谱的方法，以光学显微镜为成像平台，以成像检测器为记录仪，以纳米粒子为检测对象，以光栅为识别手段，其特征在于：用滤光片进行光谱校准、转换，高通量地测量单个纳米粒子的光谱；具体步骤如下：

（1）将纳米粒子置于载玻片上，将载玻片置于物镜前；

（2）在检测器前放置光栅进行光谱成像，记录单个纳米粒子的零级和一级光谱；

（3）在检测器前放置滤光片，以滤光片“切割”纳米粒子的一级光谱，记录“切割”后的纳米粒子一级光谱；

（4）波长校准与转换：经滤光片“切割”的一级光谱其截止处波长与滤光片的截止处波长相同，据此将纳米粒子的一级光谱表示方式从非波长单位转换成波长单位。

2.根据权利要求1所述的一种测量单个纳米粒子光谱的方法，其特征在于，所述光谱为荧光光谱、散射光谱或局域表面等离子体共振光谱。

3.根据权利要求1所述的一种测量单个纳米粒子光谱的方法，其特征在于，所述光学显微镜成像平台是常规暗场显微镜、荧光显微镜、激光散射显微镜、LSPR显微镜或微型化显微镜。

4.根据权利要求1所述的一种测量单个纳米粒子光谱的方法，其特征在于，所述光栅是透射光栅或反射光栅。

5.根据权利要求1所述的一种测量单个纳米粒子光谱的方法，其特征在于，所述纳米粒子是金属纳米粒子、金属参杂纳米粒子、半导体纳米粒子、高分子纳米粒子、量子点、银簇、金簇、碳点或生物大分子。

6.根据权利要求1所述的一种测量单个纳米粒子光谱的方法，其特征在于，所述纳米粒子尺度在5－1000纳米之间。

7.根据权利要求1所述的一种测量单个纳米粒子光谱的方法，其特征在于，所述滤光片为带通滤光片、长通滤光片、短通滤光片或陷波片。

8.根据权利要求1或2所述的一种测量单个纳米粒子光谱的方法，其特征在于，所述光谱的范围为300－800纳米。