[发明专利]一种高强度多层膜系光电玻璃及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201310585460.0 申请日: 2013-11-20
公开(公告)号: CN103590001A 公开(公告)日: 2014-02-19
发明(设计)人: 廖宁波;陈鹏飞 申请(专利权)人: 温州大学
主分类号: C23C14/10 分类号: C23C14/10;C23C14/08;C23C14/35;H01L31/052;H01L31/0224;H01L31/18
代理公司: 杭州新源专利事务所(普通合伙) 33234 代理人: 李大刚
地址: 325035 浙江省温州市瓯*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 强度 多层 光电 玻璃 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种高强度多层膜系光电玻璃,其特征在于:包括玻璃基片(1),在玻璃基片(1)上依次设有二氧化硅层(2)、氧化铝薄膜层(3)和AZO薄膜层(4)。

2.根据权利要求1所述的高强度多层膜系光电玻璃,其特征在于:所述的二氧化硅层(2)是高纯度二氧化硅层。

3.实现前述高强度多层膜系光电玻璃的制备方法,其特征在于,按下述步骤进行:

①对玻璃基片进行预清洗;

②重复3-4遍步骤①,再在真空干燥箱中烘干;

③在真空条件下对玻璃基片进行离子束溅射清洗;

④在氩气作为工作气体的环境下,采用磁控溅射的方法将溅射靶材溅射到玻璃基片表面形成衬体,溅射靶材是二氧化硅、氧化铝和AZO,衬体是二氧化硅层、氧化铝薄膜层和AZO薄膜层。

4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于:所述的步骤①中的预清洗是,先用丙酮超声清洗5分钟,然后分别用去离子水和酒精超声波清洗5分钟。

5.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于:所述的步骤④中的溅射靶材置于玻璃基片6cm,在溅射过程中衍射压强为1Pa,衍射时间为120min,衍射功率为140w-300w,衬体温度为500℃。

6.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于:所述的二氧化硅是纯度为99.99%的高纯度二氧化硅。

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